简介：摘 要 ： 电子级多晶硅金属杂质含量是评价其产品质量的重要指标之一，其杂质含量的高低直接影响下游晶圆制造产品质量，所以对其制造过程的金属杂质含量的控制至关重要，本文主要从制造无金属污染的自动设备的技术指标和设计难点入手，研究了多晶硅表面金属污染的成因，然后分析了控制金属污染的技术，设计了无金属污染自动化设备。最后，为金属杂质含量的控制提供了重要的技术及设备。

简介：摘要：电子多晶硅是制造半导体硅片最基本、最重要的原材料之一，被称为电子信息产业的“粮食”。其纯度需要达到11N。如此高的纯度对制备技术、检测技术和质量管理提出了极高的要求。长期以来，电子级多晶硅的制备技术一直被美国、德国、日本等西方国家封锁。因此，国内使用的电子级多晶硅几乎完全依赖进口，存在被“卡住”的风险。近年来，我国企业如青海黄河上游水电、江苏新华等在电子多晶硅方面取得了一些技术突破，但仍存在发展瓶颈。基于此，对电子级多晶硅生产技术进行研究，以供参考。

简介：摘要：电子级多晶硅在当今的工业生产中有着举足轻重的地位。因此，电子级多晶硅的生产厂家必须提高产品的品质，提升生产效率。从目前国内的电子多晶硅技术发展现状来看，还存在着许多问题，亟待改进相关的生产工艺，这样才能更好地推动我国电子行业稳步发展，提高企业的生产效率。基于此，文章重点分析电子级多晶硅生产的关键技术，及生产质量的影响因素，以供参考。

简介：摘要：随着我国半导体行业的快速发展，多晶硅的重要性也受到了广泛的重视，半导体企业会对稳定多晶硅的产能予以足够的重视，并且还会采取相应的措施来对其质量进行合理的控制。就从目前的情况看来，半导体行业随着社会经济水平的不断提高而得到了相应的发展，一些国外企业会对国内市场的价值越来越关注，所以多晶硅会采用倾销策略，从而国内多晶硅市场也就会被国外企业所占据。为此，多晶硅生产企业要对实际生产过程中存在的质量问题予以足够的重视，严格按照要求和规定来采取相应的措施来对质量进行合理的控制。

简介：摘要：集成电路产业是国民经济和社会发展的战略性、基础性和先导性产业，推动集成电路产业链上下游健康发展，是实现国家强盛的必由之路。根据我国国民经济“十四五”规划，国家对集成电路行业的支持政策已进入到“举国体制大力发展”的地步。半导体级多晶硅作为集成电路产业链中最上游的原材料，是产业的基础粮食，国家已出台各项政策，支持和鼓励企业技术研发及生产应用于集成电路领域的半导体级多晶硅产品，半导体级多晶硅材料早已被国家列入《电子专用材料制造》产业。

简介：摘要：多晶硅是电子及光伏产业广泛使用的重要半导体和光电子材料。西门子现代化方法是多晶硅生产的主要技术，占多晶硅产量的80%以上。在多晶硅生产过程中，三氯硅合成(TCS)、三氯硅、四氯化硅冷氢化(STC)以H2的形式生成不同量的硅。文献表明，氯硅烷含有以STC为主的硅烷、以Si2Cl6为主的硅烷、以Si3Cl8为主的硅烷、少量的硅粉和金属氯化物，其中以Si2Cl6为主的硅含量最高，通过工艺对Si2Cl6进行重组分离气相色谱分析，得出139-142℃沸腾溶液中STC冷氢和TCS计算结果表明，约84.03%的SICL6来自STC冷加氢，其余15.97%的SICL 6来自TCS+H2还原过程。虽然许多学者在分析低多晶硅的组成方面做了大量的工作，但大部分都集中在高附加值的Si2Cl6上，缺乏系统的深入分析。

简介：摘要：集成电路产业是国民经济和社会发展的战略性、基础性和先导性产业，推动集成电路产业链上下游健康发展，是实现国家强盛的必由之路。根据我国国民经济“十四五”规划，国家对集成电路行业的支持政策已进入到“举国体制大力发展”的地步。半导体级多晶硅作为集成电路产业链中最上游的原材料，是产业的基础粮食，国家已出台各项政策，支持和鼓励企业技术研发及生产应用于集成电路领域的半导体级多晶硅产品，半导体级多晶硅材料早已被国家列入《电子专用材料制造》产业。基于此，对半导体级多晶硅隐性指标进行研究，以供参考。

简介：摘 要：在工业生产中，对于电子级多晶硅的需求量是非常大的，其质量对电子产品的电路级功能、二极管功能等有着重要的影响。所以，想要保证工业生产中电子产品的质量，就需要确保电子级多晶硅产品的质量。由此，论文先对电子级多晶硅生产工艺做了简要分析，进而深入研究与分析了现阶段电子级多晶硅的生产技术，以供借鉴。

简介：摘要：三氯氢硅的还原工艺是改进西门子工艺多晶硅工艺的重要环节，其生产能力是否能够满足设计要求，这对生产达产、降低生产成本、稳定产品品质起着重要作用。本文对还原炉的影响因素进行了分析，并给出了相应的改进措施，希望能给有关人员带来帮助和参考。

简介：摘要：电子级多晶硅在当今的工业生产中有着举足轻重的地位。因此，电子级多晶硅的生产厂家必须提高产品的品质，提升生产效率。从目前国内的电子多晶硅技术发展现状来看，还存在着许多问题，亟待改进相关的生产工艺，这样才能更好地推动我国电子行业稳步发展，提高企业的生产效率。基于此，文章重点分析电子级多晶硅生产的关键技术，及生产质量的影响因素，以供参考。

简介：  摘要：电子级多晶硅是一种高纯的硅材料，因其纯度要求达到11N以上，因此要比光伏级多晶硅纯度至少提高2-3个数量级，两者之间存在显著的品质差异。突破电子级多晶硅核心技术，关键还是技术创新，优化改进生产技术和质量控制技术，在产品生产制造、装置稳定运行等各环节的过程控制上做到精益求精，并通过成百上千次的科学实验，才能生产出合格、适销对路的电子级多晶硅产品，实现电子级多晶硅国产化的战略目标。

简介： 摘要：多晶硅作为光伏太阳能电池与集成电路关键材料，一直以来其生产就备受关注，投入了大量资源进行研究，争取不断提高其生产综合效益本文对硅烷法制备多晶硅的几种工艺进行了综述，对多晶硅生产工艺做出介绍，尤其是对硅烷的制备方法做了全面的探讨。比如Komatsu硅化镁法、碱金属氢化物中的硅烷法和歧化法。虽然方法很多，但仍有需要完善的地方。

简介：摘要：多晶硅材料在市场上有较大的需求量，可以通过化工模拟软件PRO，在模拟集成的过程中，集成能量、优化过程，使设备成本得到控制，提升企业生产过程中的工业化程度。在全球气温变化、能耗量较大的大形势下，产业转型已成为必然趋势。文章通过对多晶硅生产工艺中原料提纯合成、精馏工艺、反歧化工艺、精馏除杂工艺进行深入研究和优化，旨在提高多晶硅的生产质量，为市场提供高品质的多晶硅产品。

简介：摘要：硅基复合材料在现代工业中扮演着关键角色，特别是在电子器件和清洁能源领域。其生产过程中的精炼技术的进步，对于最终产品质量、经济效益以及生产效能起着决定性作用。精炼技术的成熟度被视作衡量多晶硅制造技术水准的直观标志。通过精细的精炼工艺，杂质的有效剔除能显著提升多晶硅的纯度，这对于提升其在半导体元件和太阳能电池中的表现至关重要。高纯度的多晶硅确保了产品性能的优越性和稳定性，能满足各行业对材料纯净度的严格标准。因此，强化精炼工艺技术的研发与应用显得尤为关键。在实践中，我们需要不断寻求创新，引入前沿科技和设备，推动生产流程的自动化和智能化升级。这样不仅能进一步提高多晶硅的品质，还能降低生产成本并提升整体生产效率，从而在激烈的市场竞争中占据优势。

简介：

简介：摘要：在市场需求的推动下，我国太阳能产业发展迅猛。多晶硅作为太阳能产业发展的重要工业原料，其市场需求量逐渐增加。多晶硅的生产会产生很多高毒物质，如果硅浆渣的处理达不到环保标准，将会给环境带来巨大污染。随着市场对多晶硅产品需求量的不断加大，很多资金投入到多晶硅的生产领域。但受技术、经验和生产标准的影响，多晶硅的硅浆渣处理一直达不到环保标准，这极大的阻碍了我国太阳能产业的发展。近年来，在科研单位和生产企业的努力下，我国多晶硅生产过程中硅浆渣处理工艺和技术进步显著，但很多技术和方法由于成本造价较高，难以实现工业应用。如何进一步推动硅浆渣处理工艺和技术的发展，新的理念、方法和技术转化为生产力，已经成为摆在多晶硅生产制造企业面前亟需解决的问题。

简介：摘要：目前市场上有许多生产多晶硅的技术，西门子的先进技术得到广泛应用，以提高原料利用率和保护西门子基础上的环境。通过气相淀积成柱和封闭式多晶硅生产工艺我国能源生产和消费市场，我国光伏发电量增长了70%，位居世界第一，多晶硅的供应将直接影响光电工业的发展。多晶硅从化学角度来看是单质硅形态的另一种，在气温条件满足时使用的单质硅凝固，硅原子以金刚石结晶形态排列成多个水晶核，再结晶为硅。通常是半导体级多晶硅，工业硅经过氯化合成生产硅化后精制，这是通过还原产生的半导体特性的产物。半导体特性是其主要特征半导体是介于导体与绝缘体之间的物质。

简介：文章主要介绍了通过对厚多晶硅膜进行饱和掺杂来制作低阻值多晶电阻的方法。分析了多晶硅掺杂扩散模式，其中A类扩散模式能够得到较低的多晶电阻。要使杂质以A类扩散模式掺入多晶硅中，需要采用炉管扩散的方式进行长时间的掺杂。受杂质固溶度影响，一定厚度的掺杂多晶硅电阻值是无法无限制降低的，要制作低阻值多晶电阻，需要淀积厚多晶硅薄膜。文章选择炉管扩散的方式，进行低阻值的多晶硅薄膜制作，并通过实验，证实该方法可以得到稳定、均匀、低阻值的多晶硅方块电阻。

简介：摘要：光伏用多晶硅材料要求含Si>99.9999 %(6个N)以上，电子级多晶硅达到99.9999999%(9个N)以上。因其具有高纯度的特点，在整个生产过程中，对产品质量的控制要求很高。目前，生产多晶硅主要采用改良西门子法，因其转化效率一般为13%左右，大量的尾气需要回收利用，才能获得较好的经济效益与环境效益。

简介：