简介:利用等离子喷涂技术在结晶器CrZrCu基体上制备了Cr3C2-30NiCr涂层,采用正交试验法研究了喷涂工艺参数对Cr3c2-30NiCr涂层与基体间结合强度的影响,观察了断口宏观形貌和涂层的显微组织结构,并对涂层进行了显微硬度试验。结果表明,影响涂层与基体结合强度的因素的主次关系为:送粉速率〉主气流量〉喷涂距离〉功率;正交试验得出的最佳工艺参数为:喷涂距离130mm,主气流量120L/min,送粉速率30g/min,功率22kW;涂层与基体间的最高结合强度大于32.86MPa;涂层截面的显微硬度服从正态分布。
简介:基于局域密度近似(LSDA,Localspin-densityapproximation)和有效库仑相关能(Uapproach),采用第一性原理计算软件VASP,计算了钙钛矿型钆铝酸盐(GdAlO3,GAP)电子结构,并研究了铽离子(Tb3+)掺杂后(GdAlO3∶Tb,GAP∶Tb)对能带带隙(Eg,Energyofgap)的影响。计算结果表明:GAP为直接带隙半导体,带隙宽度主要由价带(VB,Valenceband)顶部的O-2p和导带(CB,conductionband)底部Al-3(s+p)、Gd-(s+d)(p)决定,Eg值为4.8eV;随着Tb3+的掺入,当掺入量为1/4原子比时(GAP∶Tb0.25)出现杂质能级,为3eV、2.3eV,分别对应Tb3+的5D3-7FJ(J=3,4,5,6)电子跃迁和5D4-7FJ(J=3,4,5,6)电子跃迁。当掺入量为1/16时(GAP∶Tb0.0625),仅杂质能级2.3eV较为明显,这一计算结果与GAP∶Tb0.7荧光粉在紫外激发下绿色荧光发射明显这一实验现象相符合(荧光发射主峰对应5D4→7F5(544nm))。