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  • 简介:近日,三星电子在位于美国的2018年三星半导体代工论坛,公布其全面的芯片制程技术路线图,目前已经更新至3nm工艺。据介绍,三星的7nmLPP将成为该公司首款使用EUV(极紫外光刻)方案的半导体工艺技术。以往三星的制程工艺都会分为LPE和LPP两代.

  • 标签: 三星电子 制程技术 路线图 芯片 主规划 半导体工艺
  • 简介:<正>推动高能效创新的安森美半导体(ONSemiconductor)进一步增强用于电机控制应用的产品阵容,推出两款新的方案,用于工业、白家电及消费等各种应用。新的LV8714TA是一款极高能效的双步进电机驱动器,工作电压范围为4V至16.5V。这器件的片四路半桥通道采用恒流控制,能够独立驱动2个步进电机或4个直流电机。这器件用于单桥臂(leg)同步整流型开关的功率场效

  • 标签: 安森美半导体 IPM 步进电机驱动器 工作电压范围 产品阵容 独立驱动