简介:目的探讨安氏Ⅱ类1分类错(牙合)正畸治疗前后前牙区牙槽骨高度改变的特征及相关影响因素.方法选取符合纳入标准的安氏Ⅱ类1分类错(牙合)62例,其中拔牙治疗32例(男11例,女21例,年龄12.63±0.94岁),非拔牙治疗30例(男17例,女13例,年龄12.33±1.24岁),收集患者正畸治疗前后拍摄的锥形束CT(Cone-beamComputedTomography,CBCT),分别测量治疗前后上下颌前牙唇舌(腭)侧牙槽嵴顶距釉牙骨质界(CementoenamelJunction,CEJ)距离,计算牙槽骨高度改变量,利用SPSS20.0软件对测量数据进行统计分析.结果安氏Ⅱ类1分类错(牙合)拔牙组与非拔牙组正畸治疗后前牙区牙槽骨高度降低牙面数分别达67.31%与66.94%,平均降低量分别为(1.03±2.47)mm与(0.69±4.02)mm.上颌切牙腭侧及下颌前牙舌侧,拔牙组牙槽骨高度降低量均显著高于非拔牙组,差异有统计学意义(P<0.05),下颌中切牙唇侧,非拔牙组牙槽骨高度降低量高于拔牙组,差异有统计学意义(P<0.05).结论安氏Ⅱ类1分类错(牙合)正畸治疗后前牙区牙槽骨高度普遍降低,降低量与牙位、牙齿移动方向以及牙移动幅度等因素密切相关.提示正畸医生应对安氏Ⅱ类1分类错(牙合)患者治疗前不同牙位的牙槽骨状况有准确的了解,并合理设计牙移动方式、方向和幅度,避免不利的牙齿移动导致牙槽骨高度的显著降低从而危害牙周健康.
简介:目的:比较上颌骨大型缺损后,行颧区成形术,在颧骨体底部垂直于(牙合)平面方向植入的种植体,与直接往颧骨体斜向30°植入的种植体在垂直(牙合)力作用下表现的生物力学行为差异.方法:按照两个不同种植体义颌的设计特点建立两个一侧上颌骨大型缺损种植体复合体的三维有限元模型,在相同的垂直于(牙合)平面加载100N,比较两者的受力情况.结果:斜向植入种植体颈部最大等效应力约是垂直植入种植体的4倍;最大拉应力约是垂直植入种植体的10倍;最大压应力约是垂直植入种植体的5倍;最大剪应力约是垂直植入种植体的4倍.虽然两者在颧骨体以外其余部位的应力分布均类似于颧突支柱的应力传导路径,但斜向种植体受侧向力后在主要传导路径上的最大应力值都要明显高于垂直种植体的轴向受力情况.结论:无论是颧骨体研究区的应力分布,还是颧骨体以外其余颅骨骨质的应力情况,垂直植入都要明显优于斜向植入.提示采用在颧区垂直种植的颧颊翼种植体义颌,比颧骨体斜向种植的常规种植体义颌具有优越的生物力学表现.
简介:目的临床复查中,对于下颌骨萎缩患者,由于口底升高常导致难以放置口内平行投照牙片,而口外拍摄技术,如曲面断层片则常常存在下颌前牙区影像的失真。在本研究中,对口内平行投照牙片和曲面断层片在评估种植体周边缘骨吸收方面进行了比较。材料和方法应用曲面断层片和平行投照牙片对下颌前牙区的种植体周边缘骨吸收进行测量,对种周袋深度,种植体动度,出血指数进行临床检查并记录。在统计分析中选用Spearman相关系数。应用混合模型,临床参数及其对骨吸收的影响采用Bland-Altman方法计算。结果计算曲面断层片(MKII种植体系统组为2.4mm±0.2mm,Frios组为1.6mm±0.2mm)与口内平行投照牙片(相应为2.6mm±0.2mm和1.4mm±0.2mm)上的骨吸收测量值之间的最小均方差为0.2mm(范围为0.1~0.8mm)。上述2种X线投照技术在测量边缘骨吸收精确性方面临床上是可比的。结论在下颌骨严重萎缩,牙片放置困难的情况下,曲面断层片可以替代口内平行投照牙片来对种植体周边缘骨吸收情况进行评估。
简介:目的利用三维有限元分析方法评估种植体根尖部与上颌窦底皮质骨的关系对上颌后牙区种植的生物力学影响。方法应用计算机辅助设计(computerassisteddesign,CAD)软件建立标准种植体及上颌后牙区三维有限元模型(M1~M6),皮质骨厚度均为1mm,依据牙槽骨高度不同(10~14mm),种植体根尖部与上颌窦底皮质骨的关系如下。M1:种植体根尖部穿通上颌窦底皮质骨(窦底皮质骨的上表面与种植体根尖部位于同一平面);M2:种植体根尖部进入窦底皮质骨厚度的一半;M3:种植体根尖部恰好接触窦底皮质骨的下表面;M4~M6:种植体根尖部分别距离窦底皮质骨的下表面1、2、3mm。采用129N斜向加载,分别置于即刻负载与常规负载条件下,计算其应力分布、最大vonMises应力、种植体的最大位移和共振频率。结果除M1即刻负载外,最大vonMises应力均集中于种植体颈部周围的牙槽嵴顶皮质骨表面。无论即刻负载或常规负载下,种植体根尖部进入或穿通窦底皮质骨时,牙槽嵴顶皮质骨的最大vonMises应力降低,窦底皮质骨的最大vonMises应力增加,种植体的轴向共振频率显著增加,颊舌向共振频率显著降低。即刻负载条件下,当种植体进入或穿通窦底皮质骨时,其最大位移尤其是根尖部的最大位移小于其他情况下的最大位移。常规负载条件下,种植体颈部与根尖部的最大位移几乎不受种植体根尖部位置的影响。结论种植体根尖部与上颌窦底皮质骨的相对位置关系对种植体周围组织的应力分布、种植体的最大位移以及共振频率均有一定影响。种植体根尖部进入或穿通上颌窦底皮质骨有利于改善应力分布,减少种植体根尖部的位移,增加种植体的稳定性,尤其在即刻负载下作用显著。
简介:目的:本前瞻性研究是为了确定应用于萎缩上颌后牙区的多孔状短种植体的5年存活率。必要情况下植入种植体需结合上颌窦底内提升术.术中常常添加无机牛骨粉。材料和方法:在87例牙列缺损患者中植入110颗多孔状短种植体并随访5年。使用的种植体包括两种长度(5mm和7mm)和两种直径(4.1mm和5mm).根据患者牙槽骨的高度和宽度进行选择。在47个植牙部位实施了上颌窦底内提升术(其中8例直接提升窦底黏膜.39例提升同时加入异体移植骨).未负载的愈合期为6个月。总共63颗种植体用单冠修复.47颗相邻种植体联冠修复。观察指标是有无修复体和种植体失败,任何并发症和种植体周围边缘骨吸收。结果:种植体修复后5年内无患者退出研究。11颗种植体失败:2颗发生于种植体未负载时,9颗发生在修复体负载后。11例患者(占12.6%)都失败了1颗种植体。6名患者(占6.9%)发生了修复体失败(种植体单冠修复)。1例手术并发症(膜穿孔)发生,但种植体正常植入。愈合期间无并发症发生。3名患者种植体负载后发生严重种植体周围炎而不得不拔除种植体。2颗基台松动和1颗烤瓷冠崩瓷。随访期末的种植体存活率是90%,修复重建的成功率是93.1%。平均种植体周围边缘骨吸收为1.4mm。结论:上颌后牙区使用多孔状短种植体治疗5年的研究报告显示具有可接受的临床结果.但仍需要更长时间的随访来证实这些结果。