简介:目的:研究经烤瓷烧结程序处理后的Ni-Cr-Ti合金在人工唾液中的腐蚀性能.方法:采用电感耦合等离子体光谱分析法(ICP-AES)检测Ni-Cr-Ti合金和Ni-Cr合金在人工唾液中浸泡3、15、90d的离子析出量.结果:Ni-Cr-Ti合金在各时间段在人工唾液中析出的金属离子总量较Ni-Cr合金低,差异有显著性(P<0.05).Ni-Cr-Ti合金和Ni-Cr合金析出的金属离子总量均随时间延长而增高,具有时间相关性.结论:Ni-Cr-Ti合金耐腐蚀性较Ni-Cr合金强,在人工唾液中析出的金属离子较Ni-Cr合金少.但Ni-Cr-Ti合金在人工唾液中仍有相当数量的Ni、Be离子析出,建议临床上应用于前牙时,应选择肩台瓷技术修复.
简介:根管闭锁(pulpcanalobliteration,PCO)是牙外伤后常见的并发症之一,通常发生于青少年,多见于年轻恒牙。PCO的发生机制尚不明确,可能是外伤后受损的牙髓出现血管再生和(或)神经再生的结果,也可能是由于外伤本身或者复位固定外伤牙后牙髓血液流量的改变导致。对于牙外伤后出现PCO的患牙,一些学者认为根管治疗不仅可以避免出现根尖周炎症,而且有利于患牙的美容修复。大多数学者则认为可对患牙进行长期的随访观察,只有伴有PCO的外伤牙出现牙髓坏死或者发展为根尖周炎时才考虑根管治疗,而且根管治疗对PCO的患牙是一项挑战,在技术上是复杂的。总之,为了及时检测到PCO的发生,对外伤牙定期随访和密切观察是十分必要的。
简介:目的应用锥体束计算机断层(Conebeamcomputedtomography,CBCT)技术分析正畸牙移动早期牙根吸收的发生情况及其影响因素。方法选择108例正畸患者,432颗上切牙,治疗前及治疗5~9个月,平均(6.9±1.24)个月后分别拍摄上颌4个切牙CBCT。记录患者性别、初诊年龄、拔牙与否、安氏分类及追踪时间长短。对牙根吸收程度及相关因素进行统计分析,将发生根吸收超过1mm定义为具有临床意义的根吸收。结果上切牙的平均根吸收量为(0.45±0.49)mm,13.8%的上切牙及27.8%的患者发生了有临床意义的根吸收,2%的上切牙及6.5%的患者发生了严重根吸收,其中最大根吸收量为4.58mm。以牙根吸收量为因变量,患者性别、初诊年龄等为自变量行多元线性逐步回归分析,结果未显示与牙根吸收明显相关的危险因素。结论正畸治疗早期有临床意义的上切牙根吸收较为常见,但大多数较轻微。早期根吸收可能主要与患者的个体易感性有关。
简介:目的:通过层次分析法(analytichierarchyprocess,AHP)和专家咨询法(Delphitechnique),建立颌面部解剖损伤严重度的评估方法.为颌面部损伤严重度的评价提供研究手段。方法:首先采用AHP法将颌面部解剖损伤按软组织伤和硬组织伤分层建立详细的损伤指标,并将最终评价指标按损伤程度分级,再用Delphi法对每一层的评价指标分别两两比较评分,求出评价指标的组合权重,将其与评价指标的程度分级相结合,获得颌面部解剖损伤严重度的评价方法。结果:得到颌面部解剖损伤严重度的评价方法即平均组合权重(Ci)与评价指标的严重度分级(Pi)的乘积和(即∑i=1^mCi·RPi)。结论:Delphi法和AHP法结合,是建立颌面部解剖损伤严重度评价的有效方法,可使颌面部解剖损伤严重度评价的定性描述定量化。
简介:目的单组分粘接剂越来越广泛地在树脂及银汞合金充填时用作粘接剂和封闭剂,具备抗菌性能对其更为重要。本文采用直接接触法(DCT)和琼脂扩散法(ADT)对单组分粘接剂聚合后的抗菌性能进行了研究。材料和方法对6种单组分粘接剂(Bond-1、OptiBondSolo,One-Step、Gluma、Prime&BondNT和Synergy)的各4个样本用上述两种方法进行检测。DCT法中,材料放置在96孑L板侧壁上固化。涂布10μl变形链球菌悬液后在37℃放置1小时。加入培养基,放人可控温酶标仪内。ADT法:将样本放入琼脂平皿上打好的小孔内,培育72小时后测量抑菌环直径。结果DCT法中所有粘接剂均显示出抗菌性,所有样本表明均无活菌生存。样本在磷酸缓冲液内放置24小时后仍然具有抗菌性。放置7天后,则失去抗菌能力。ADT法中所有样本均没有形成抑菌环。结论在DCT法体外实验中,单组分粘接剂聚合后至少24小时内具有抗菌特性。
简介:目的:检测磨牙冠部中央区釉牙本质交界(dentin-enameljunction,DEJ)和牙本质的极限抗拉强度(ultimatetensilestrength,UTS)及断裂面分析。方法:第三磨牙牙合面分层堆积树脂,沿颊舌方向切割成厚度为1mm的薄片后,用金刚砂车针打磨成截面积大约为1mm×1mm的哑铃型试件。测试磨牙中央区DEJ、牙本质浅层、牙本质中层、牙本质深层垂直和水平向的极限抗拉强度。所有试件断口扫描电镜观察。结果:牙本质不同层面的UTS呈各向异性,由牙本质浅层至牙本质深层UTS递减(P〈0.05),釉牙本质交界区域和牙本质中层的UTS无统计学差异(P〉0.05);断口扫描电镜观察表明管周牙本质、管间牙本质显示不在同一平面的断裂形式,牙本质和牙釉质断裂过程中裂纹进展方向改变,大多数DEJ试件的裂纹常发生在牙釉质侧。结论:磨牙冠部牙本质抵抗水平向断裂的能力强,DEJ对釉质裂纹的扩展有一定的抑制作用。