简介：设计并制备了极紫外啁啾多层膜反射镜,利用同步辐射反射率测试装置完成了样品反射率的测试,采用单纯形算法拟合了反射率测试曲线,分析了顶层Si的氧化对拟合结果的影响。拟合结果表明,2块样品的Si-on-Mo粗糙度为0.4nm和0.5nm,Mo-on-Si粗糙度为0.8nm和0.9nm,顶层Si的氧化是影响极紫外啁啾多层膜反射镜反射率的重要因素。

简介：介绍了利用光干涉法动态监控膜厚的原理，并介绍了对生产薄膜设备和镀膜设备在工作时对膜厚动态检测和控制。

简介：利用SiC/Si,Mo/Si,B4C/Si,SiC/Al,Co/Mg和SiC/Mg材料对,通过单纯形算法设计了太阳成像用28.4nm周期多层膜反射镜,并采用遗传算法设计了具有强烈抑制30.4nm光谱线功能的28.4nm非周期多层膜反射镜。计算了两种反射镜在波长28.4nm处的光谱纯度,结果表明：周期多层膜反射镜的光谱纯度SiC/Mg最高,Mo/Si最低;而所有非周期多层膜反射镜都有很高的光谱纯度。

简介：根据极紫外成像器观测地球周围等离子层的要求，设计了极紫外Mg／SiC双功能多层膜反射镜，并分析了粗糙度、膜厚精度和光学常数变化对反射率的影响。结果表明：5°入射的双功能多层膜反射镜在30．4nm和58．4nm处的反射率分别大于41％、小于0．209／6。

简介：

简介：自20世纪50年代末起，电力电子学飞速发展，成了现代社会和人类生活以及电工技术不可或缺的关键技术。由于作者不可能调查日本在建的从5－W开关调节器至2．8－GW高压直流传输系统范围的各种电力电子器件的情况，因此本文着重阐述电力电子技术水平和大功率应用的情况。本文还陈述了21世纪电力电子技术的前景和发展方向，其中有作者的个人观点和期望。