设计并制备了极紫外啁啾多层膜反射镜,利用同步辐射反射率测试装置完成了样品反射率的测试,采用单纯形算法拟合了反射率测试曲线,分析了顶层Si的氧化对拟合结果的影响。拟合结果表明,2块样品的Si-on-Mo粗糙度为0.4nm和0.5nm,Mo-on-Si粗糙度为0.8nm和0.9nm,顶层Si的氧化是影响极紫外啁啾多层膜反射镜反射率的重要因素。
上海电机学院学报
2009年1期
