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  • 简介:拉格朗日(Lagrange)对偶是最优化方法中的重要理论。通过扩展AdHoc网络的效用最大化模型,分别对其“联合拥塞控制和随机接入”及“联合拥塞控制、路由和调度”两个问题进行建模,运用Lagrange对偶分解把建模后的问题转化为对应于各个不同的子问题,通过分布的方式独立解决这些子问题不仅可以获得不同的跨算法,而且可以最终解决全局最优化的问题。论文详细地分析了拉格朗日对偶在adhoc网络这两种跨方法中的应用。

  • 标签: LAGRANGE对偶 AD HOC 联合 网络效用 跨层算法
  • 简介:本文对以LiBq4作为发光,PVK:TPD作为空穴输运,结构为:ITO/PVK:TPD/LiBq4/Alq3/Al的蓝色有机电致发光器件,在相同工艺条件下引入和不引入CuPc缓冲,进行了实验研究.结果表明:由于CuPc缓冲的引入,使蓝色OLED的电流随电压的增大较未加CuPc的OLED相对缓慢;且启亮电压上升,发光亮度和效率下降.这主要是因为CuPc加入后,空穴注入势垒降低,使PVK:TPD/LiBq4界面空穴积累数量增大,产生的反向漂移电场阻碍了空穴多数载流子的注入;并进而致使发光注入空穴数量减小,内建电场加强,激子形成几率变小,解离几率增大.

  • 标签: CuPc缓冲层 空间积累电荷 电流-电压特性 发光效率 OLED
  • 简介:实验中制备了不同厚度的缓冲PBD修饰的有机电致发光器件以及没有缓冲修饰的有机器件.通过比较发现缓冲PBD的最优厚度为0.2nm,缓冲PBD对于器件亮度有显著的影响.当缓冲PBD厚度为0.2nm,相同电压下器件的亮度要比无缓冲器件的亮度要高.当电压为16V时,PBD修饰的器件的亮度为1984cd/A,而没有缓冲材料修饰的器件的亮度为1110cd/A,器件的亮度得到了提高.在电流密度为120mA/cm2的情况下,PBD修饰的器件的效率为3cd/A,要比没有缓冲材料修饰的器件的效率(为2.6cd/A)高.最主要的原因是由于PBD是电子传输,因此它对于空穴的注入起阻挡作用.所以缓冲PBD阻挡和减少了空穴的注入,提高了电子和空穴形成激子的比例,从而提高了器件的效率.

  • 标签: 缓冲层 有机电致发光器件 亮度 D/A 注入 空穴
  • 简介:<正>中科大日前发布消息,该校熊宇杰教授课题组通过与江俊教授、张群副教授在材料设计与合成、理论模拟和先进表征中的"三位一体化"合作,在光催化复合材料设计方面取得系列新进展,成果发表在国际著名期刊《先进材料》上。每种特定的材料一般都具有某方面独特的性能及优势,材料的复合是突破单一材料性能瓶颈的有效途径。具体到光催化体系,复合材料中不同组成单元可以扮演产生及分离电荷、吸附活化分子等各种重要角色。然而,事实上复合

  • 标签: 复合材料设计 光催化体系 石墨烯 性能瓶颈 叠层结构 江俊
  • 简介:体系对抗环境下,需要考虑电磁干扰对C4ISR系统应用的影响。提出了从系统效能和作战效能评估防空CtISR系统抗干扰能力的方法。建立了系统抗干扰评估指标体系,介绍了评估指标的定量计算模型及其规范化处理方法。结合层次分析法,给出了系统在应用抗干扰能力的综合评估模型。通过应用案例,阐明该评估模型的应用方法。实践证明,该评估模型对改进系统设计、提高系统效能具有一定价值。

  • 标签: 防空C4ISR系统 抗干扰能力 效能评估 层次分析法
  • 简介:焊球与互连是芯片倒装封装中两种主要的互连结构,而随着数字电路时钟频率的不断提升,差分信号已成为高速数字电路中最常用的信号形式。采用HFSS全波仿真方法对芯片倒装封装中高速差分信号在差分对焊球和互连结构中的传输特性进行了研究。首先在理想情况下对差分对焊球结构进行了建模,分析了焊球阵列中焊球的尺寸和节距参数对差分信号传输特性的影响,发现在假定焊球节距为焊球直径2倍的情况下,现阶段常用的直径为0.1-1.27mm的焊球中焊球尺寸和节距越小越能在宽频段内实现更好的传输性能。其次对平行式和内弯式、外弯式非平行差分互连结构进行了对比研究,发现平行式结构优于内弯式非平行结构,内弯式非平行结构优于外弯式非平行结构。

  • 标签: 芯片倒装封装 高速差分信号 差分对焊球 内弯式差分对互连 外弯式差分对互连
  • 简介:<正>张彦其人其画:张彦,1958年10月生,河北高阳人。曾任中国人民银行党委宣传部副部长。中国书法家协会理事、中国书法家协会硬笔书法委员会副主任、中国金融书法家协会主席、中国榜书艺术研究会顾问。作品多次参加国内外书法大赛及大展并获奖。书法作品和艺术成就分别载入《中国当代书法艺术大成》、《中国当代书画名家收藏指南》、《成语

  • 标签: 张铜 中国书协 当代书法 书法作品 中国书法家协会 书法大赛
  • 简介:先进节点逻辑集成电路制造是当前工业界的领先工艺。为实现接触(Contact)的光刻工艺,需要从两个关键方面进行处理:解析度和全间距的共有工艺窗口。离轴照明+相移掩模+亚解析度辅助图形多种解析度增强技术的组合使用是解决光刻成像的方法。从优化接触离轴照明的类型方面解决光刻制造工艺的问题。

  • 标签: 离轴照明 照明类型 工艺窗口 掩模误差增强因子
  • 简介:据业内消息称,紫光集团旗下的长江存储技术公司(YMTC)正在规划开发自己的DRAM内存制造技术,而且可能直奔当今世界最先进的20/18nm工艺。长江存储技术公司是紫光集团收购武汉新芯部分股权后更名而来的,并邀请了台湾地区华亚科技董事长高启全(CharlesKau)加盟,出任全球执行副总裁。

  • 标签: 存储技术 NAND闪存 长江 样品 3D 堆叠
  • 简介:2004年清洗技术国际论坛暨清洗技术装备展览会的国际招展工作进行得风风火火.为使广大读者朋友能够详细了解本次展会的招展进程,记者特意采访了中国洗净工程技术合作协会国际合作部部长王荣年(以下简称"王")及助理刘赞(以下简称"刘").

  • 标签: 2004年 清洗技术 国际论坛 洗净工程 清洗行业 超声清洗