简介:本文对日立化成工业公司新开发的IC封装用基板材料(MCL-E-679GT)的主要特性、技术构成、研发思路、运用相关材料等加以介绍、分析。
简介:昆明玉金技术开发有限公司注册成立于2008年4月,公司致力于贵金属矿产资源及可再生资源综合利用关键技术及其工程化的开发、转让、咨询、项目论证、可行性研究等。近几年来公司余建民研究员研究开发出从贵金属矿产资源及可再生资源中富集、提取分离、精炼贵金属的系列高新关键技术及其设备。该系列高新关键技术包括低品位物料贵金属富集工艺技术、高品位难处理物料贵金属富集工艺技术、贵金属与贱金属分离工艺技术、贵金属萃取分离工艺技术、高纯贵金属精炼工艺技术、贵金属富集分离设备设计开发技术、贵金属前驱体制备工艺技术等7大类。这些技术和设备均已进行过不同规模、不同批量的实际工业生产,证明工艺流程畅通、技术指标稳定可靠、贵金属回收率高、生产成本及能耗低、污染小、设备利用率高、社会效益和经济效益显著,符合国家可持续发展和循环经济的发展理念。
简介:采用物理化学恒电流电解装置和抽滤洗涤装置将先进高温结构材料FGH96中γ'相萃取分离,利用X射线衍射、扫描电子显微和能谱等分析技术,以及化学成分分析方法,对萃取相的组成、类型、形状、粒度大小及晶体结构等进行分析。结果表明适用于粉末高温冶金的理解提取分离第二相的条件是:电解液(1%(NH4)2SO4+2%酒石酸+5%乙二醇),电流密度0.03A/cm2,电解温度-5~0℃,电解时间30min;萃取粉末物理定性XRD分析采用CuKα辐射(40kV,40mA),狭缝规格1.0mm×1.0mm×0.6mm,扫描范围10°~90°,步长0.02°;ICP法适用于进行萃取第二相粉末元素含量的分析。
简介:随着电子整机的多功能化、小型化.半导体元器件装配用的基板线条也逐渐趋于微细化。印制电路板一般用的铜箔(以下称为一般铜箔)表面都经过了粗糙化处理.在蚀刻成为线路时.铜箔的粗糙化部分嵌入粘合结构中很难蚀刻干净.所以不适合制作精细线条的印制电路板。为此.日立化成公司研发成功了一种表面不进行粗糙化处理.表面粗糙度在1.5μm以下,表面较平滑适合于制作精细印制电路的铜箔(以下称无粗糙化铜箔)。一般认为.表面平滑的铜箔其抗剥强度较低:但这种新开发的铜箔表面经过了特殊处理.仍然与低轮廓铜箔相当,保持0.7kN/m以上的抗剥强度。采用这种无粗糙化铜箔.以减成法可蚀刻成60μm线宽的精细线路。并顺利地进行无电镀镍/金工艺作业.减少了对镀浓的污染。当前正处于高速度、大容量的信息化时代.使用这种新型铜箔的线路与一般铜箔者相比.同样是传输5GHz的信号,线路的衰减将降低8dB/m。此项技术将对商逮印制电路板基材的研发起到积极作用。
简介:介绍了刚-挠结合型印制电路板封装技术的原理、做法和在空间技术中应用的重要意义。
简介:第十节粘结片的储存与叠书2.回流线(接2014年第2期)2.2半自动回流线与手动生产线半自动回流线叠书(叠BOOK)时,粘结片料叠及铜箔是由人工操作送入叠BOOK台。不锈钢板、托板、盖板的移送仍然由移板机操作。采用半自动回流线虽然可以降低投资强度,但劳动强度比全自动回流线要大许多,产品外观质量的保证也比自动线差了好多。半自动回流线生产中必须把好下面几个工艺关口。2.2.1铜箔的裁切半自动回流线的铜箔裁切在另一个地方单独进行,环境净化度通常在10000级。铜箔裁切机可以切单卷,也可以同时切两卷。切两卷是通常让两张铜箔背背相对(即铜箔光面相对),这样可以防止在叠BOOK过程胶粉污染到铜箔的光面,这种铜箔切机最薄只能切到18μm铜箔。