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  • 简介:文章主要介绍了封装过程中几个重要工艺参数,分别探讨了不同工艺条件对环氧塑封料成型工艺影响,并介绍了封装过程中工艺调整方向,同时介绍了在环氧塑封料选择中必须考虑几个重要因素,并论述了这几个因素对封装器件可靠性造成影响。

  • 标签: 环氧塑封料 封装 内应力 流动性
  • 简介:低压差分信号(LVDS)是用于高速低功耗数据传输一种非常理想传输技术。由于使用全差分技术和低电压摆幅,LVDS技术达到高速度同时消耗功耗非常小。设计了一种具有Gbps发送速度LVDS发送电路。通过在输出采用闭环控制模式,使得LVDS输出共模电平和电压幅值被控制在一个合理范围内。基于SMIC0.18μmCMOS工艺模型,采用Hspice仿真器对整个发送电路进行模拟,结果表明所设计发送电路具有4Gbps发送速度,功耗仅为18.6mW。

  • 标签: 发送电路 高速接口电路 低压差分信号
  • 简介:无卤化覆铜板及多层板用半固化片已经在我国不少PCB厂家开始使用,并且需用量在迅速增加。在使用此类基板材料中,PCB工艺是如何进行调整?从用户角度对此类板有何评价?这是我们覆铜板行业所十分关心问题。本文是来自PCB生产第一线技术人员撰写有关此内容论文,作为我们参考。

  • 标签: 印制电路板 生产工艺 无卤素 无卤化覆铜板 PCB 半固化片
  • 简介:高清数字电视HD-DVR机顶盒已经成为了全球发展趋势,MIPS_RAC终端测试作为其中缓存反应速度主要芯片参数,其工艺窗口直接关系到机顶盒成品率高低和稳定。文章研究了MIPS_RAC终端测试与器件速度之间关系,并定义了MIPS_RAC在0.13μm通用逻辑工艺平台上工艺安全范围。

  • 标签: 机顶盒 MIPS_RAC 器件
  • 简介:前言随着数码相机等高科技产品在市场上普及,近几年来光学镜片加工行业也得到了迅猛发展。清洗工艺是光学镜片加工生产过程中重要一环。目前国内光学玻璃加工厂家常规采用透镜加工工艺大致如下:玻璃毛坯-切削-研磨抛光-清洗-求芯(磨边)-清洗-镀膜-清洗-接合-涂墨。本文针对其中镜片清洗工艺及其配合使用清洗剂不同特点,进行了论述。

  • 标签: 光学玻璃 透镜 清洗工艺 清洗剂 选型 研磨工序
  • 简介:文章首先详细研究了D类音频放大器和相关BiCMOS基本原理和结构,并在此基础上综合现阶段国内市场对D类功率放大器需求,开发了基于0.6μm特征线宽、双层多晶、双层金属多晶发射极BiCMOS工艺D类功率放大器。该D类音频放大器,在5V电压下可以以1.4W/Ch功率驱动阻抗为8负载。它同样可驱动阻抗为4负载,5V电压下提供最大功率为2.1W/Ch。同时还详细描述了前置音频放大器,三角波产生电路、比较器,死区控制电路,输出驱动电路等子模块设计内容。电路在Cadence环境下进行设计和仿真验证,经过仿真表明电路设计性能良好,符合设计要求,可广泛应用于便携式电子产品。

  • 标签: D类功率放大器 死区控制 H桥 BICMOS工艺 多晶发射极 便携式
  • 简介:前言:上期我们谈到“无铅技术发展和对中国SMT界影响大观”,知道了无铅技术推行只是个时间上问题。而对某些行业和企业来说,虽然距离必须推行期限还有一段时间,不过当考虑到推行所需要大量准备工作时,此刻已经可算是件急事了。我在下期文章中会和大家分享在无铅技术引进和管理工作上一些关键考虑点。

  • 标签: 无铅技术 企业 中国 推行 无铅工艺 行业
  • 简介:PEDOT:PSS直接电镀工艺对传统工艺进行了改造。改造后工艺不仅比传统工艺减少了四个环节,而且将分离两个时空合二为一,这样就缩短处理时间,提高了生产效率,最后我们还分析了影响镀层质量和沉积效率因素,这些因素完全是定量可控,它们是我们进一步优化工艺参数和提高镀层质量理论根据。

  • 标签: 直接电镀工艺 导电机理 质量改善
  • 简介:文章主要介绍了通过对厚多晶硅膜进行饱和掺杂来制作低阻值多晶电阻方法。分析了多晶硅掺杂扩散模式,其中A类扩散模式能够得到较低多晶电阻。要使杂质以A类扩散模式掺入多晶硅中,需要采用炉管扩散方式进行长时间掺杂。受杂质固溶度影响,一定厚度掺杂多晶硅电阻值是无法无限制降低,要制作低阻值多晶电阻,需要淀积厚多晶硅薄膜。文章选择炉管扩散方式,进行低阻值多晶硅薄膜制作,并通过实验,证实该方法可以得到稳定、均匀、低阻值多晶硅方块电阻。

  • 标签: 厚多晶硅薄膜 饱和掺杂 低阻 多晶硅电阻
  • 简介:随着老油田管杆问题导致作业不成功或低效作业井数量逐年增加,提高油管清洗修复能力和清洗质量越来越成为制约作业质量提升一个重要因素。针对油管回收、清洗、修复和检测等生产过程中存在油管传输线分管效率低、清洗设备卡管故障率高、油泥砂清理困难且耗时较长、信号控制系统和信号预警系统不完善等问题,提出采取增加传输线改进传输流程、优化传动机构提高传输线使用性能和运行效率、改进限位机构消减设备卡管故障、改进排污循环系统实现油泥砂自动抽排和清洗设备自动加水、增添故障预警装置完善设备信号控制系统等对策改进措施,并对实施效果作了综合评价分析。实践证明,这些措施均十分有效。

  • 标签: 工艺优化 技术改造 系统效率 油管清洗
  • 简介:作为一种传统焊接技术,目前波峰焊依然在电子制造领域发挥着积极作用。本文介绍了波峰焊接技术原理,以及一种新型波峰焊接技术特点,与传统波峰焊情况不同,它可以保护表面贴装元件来实现对通孔元件焊接。最后本文分别从焊接前质量控制、生产工艺材料及工艺参数这三个方面探讨了提高波峰焊质量有效方法。

  • 标签: 波峰焊 印制线路板 助焊剂 焊料 工艺参数
  • 简介:塑封集成电路在高可靠性领域应用越来越广泛,国内已有相当数量塑封集成电路应用于国防领域。但是,目前大部分关键塑封集成电路依赖进口,采购渠道不是很通畅,市场中存在大量翻新件。文章基于塑封集成电路封装工艺,简要介绍如何识别翻新塑封集成电路。

  • 标签: 高可靠性 翻新 塑封集成电路
  • 简介:本文针对聚四氟乙烯射频介质基板材料,制造通讯用射频多层印制电路板粘结方式进行了详细介绍,此外对粘结片材料选择、以及本体粘结实现技术进行了研究。

  • 标签: 射频 多层电路板
  • 简介:针对二维工艺设计存在问题,研究了雷达结构三雏工艺设计系统。分析了雷达研制业务流程,提出了雷达结构三维工艺设计模式。以工序模型构建为主线,分析了雷达结构三维工艺设计过程。研究了基于模型工艺信息表达技术,并提出了一种三维工艺信息表示符号;还研究了基于知识智能工艺决策方法,提出了一种面向工艺设计工序模型辅助生成技术。开发并实现了雷达结构三维工艺设计系统,并以某雷达结构为例,验证了系统有效性。

  • 标签: 三维工艺设计 工序模型 基于模型定义 工艺信息模型 雷达结构
  • 简介:3.2.4射流喷砂法制造积层多层板工艺射流喷砂加工技术,在电镀、喷漆行业中,早已得到广泛应用,它能最有效地将工件表面生成氧化层、锈斑、熔渣等污物除去,并使工件表面组织形成了适宜粗糙度,从而有利于涂(镀)覆层与工件表面的结合力。而在积层多层板制造中,利用射流喷砂加工微孔技术,是近几年发展起来新工

  • 标签: 积层多层板 高密度互连 工艺 工件表面 加工技术 喷砂法
  • 简介:0前言手机振动功能是由挠性电路马达板振动马达得以实现。为有效消除马达工作时产生感应电,延长振动马达工作寿命,避免由于感应电对手机正常工作产生不良影响,需要对振动马达进行接地处理。

  • 标签: 挠性 导电胶 钢片 叠层结构 接地电阻 工作寿命
  • 简介:本文对高厚度小孔径铜基高频板制造工艺进行简介,并对制造难点进行改善,找出合理制造工艺,为业界同仁制作高厚度小孔径铜基高频板提供参考。

  • 标签: 高厚度 铜基高频板 小孔径 制造工艺
  • 简介:<正>世界上巨型半导体企业如Intel和台积电等将率先从2011年后启动开发22nm以下微细化量产技术,同时还都认为,2013年后可望量产化15nm技术是半导体加工工艺发展道路上一个转折点。其表现为逻辑电路上现用CMOS平面体管,将转变为具有3维沟道导向立体晶体管。这一转变势必严重

  • 标签: 半导体加工 NM 半导体企业 量产化 体管 微细化
  • 简介:文章主要针对一种厚孔铜(≥60μm)产品制作工艺进行研究,如何在将孔铜控制至≥60μm以上,而电镀面铜能有效控制在60μm以下,并进行顺利制作出精细线路。本次主要采用了全板加成、局部加成、全板加成+局部加成三种工艺分别进行试验测试评估,最终采用全板加成+局部加成相结合工艺方法最佳,产品质量及可靠性均符合产品要求。

  • 标签: 厚孔铜 面铜厚度 电镀 精细线路 全板加成 局部加成
  • 简介:本文对印制电路板可制造性工艺研究进行了简单介绍、并对所采用工艺技术有效性进行了较为详细论述。

  • 标签: 印制电路板 工艺