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  • 简介:本文报道纳米Gd2O3:(Ce^3+,Eu^3+)紫外以及真空紫外(UV-VU)激发光谱及其选择激发下荧光光谱。这些光谱实验表明,除了Gd2O3,E^3+离子之间能量传递外,还存在着Gd^3+Ce^3+、Eu^3+间能量传递,即存在Gd^3+→Ce^3+→Eu^3+三种稀土离子间级联传递。

  • 标签: 稀土离子 UV-VUV激发谱 级联能量传递 纳米氧化钆
  • 简介:磁控溅射法在YBa2Cu3O7-δ缓冲层及SrTiO3(001)衬底上生长Pb(Zr0.52Ti0.48)O3薄膜材料,应用X射线散射倒空间作图法研究薄膜在垂直(a⊥)和平行(a||)表面方向晶格常数与其厚度关系。研究结果表明,随着PZT厚度增加,a⊥增加,而a||减小。这种晶格常数变化,不能用一般薄膜弹性畸变来解释,我们归结为晶体尺寸效应起了很大作用。X射线衍射测量结果表明,随着PZT厚度增加,其晶粒尺寸也增加。

  • 标签: PZT薄膜 晶格常数 厚度 铁电薄膜 X射线衍射
  • 简介:本文首次利用异常衍射精细结构谱(DAFS)分析技术多层膜NiFe和Cu精细结构进行了分析。从DAFS谱,我们提取出Ni和Cu精细结构谱,从而可以单独研究多层膜NiFe和Cu精细结构。荧光EXAFS谱比较表明,两种方法得到谱线完全一致。该技术研究超薄多层膜精细结构提供一种强有力工具。

  • 标签: DAFS NiFe/Cu多层膜 结构 超薄金属多层膜 异常衍射精细结构谱
  • 简介:软X射线干涉测量是通过软X射线激光经过马赫-詹德干涉仪完成,是测量驱动激光临界面附近等离子体状态重要方法。本文基于软X射线多层膜性能特点,指出软X射线干涉测量干涉仪各光学元件入射角越接近正入射越好,分束镜设计应以其反射率和透过率乘积为衡量标准。用离子束溅射法制作了类镍银13.9nm软X射线激光干涉测量所需分束镜,实测表明其面形精度达到纳米量级,反射率和透过率乘积大于1.6%。

  • 标签: 软X射线干涉测量 分束镜 激光 多层膜 等离子体 入射角
  • 简介:用小角X射线散射(SAXS),Raman谱,红外透射谱等研究高氢稀硅烷热丝法(HWCVD)制备氢化微晶硅膜微结构,结果表明微晶硅大小及在薄膜晶态比随氢稀释度提高而增加。SAXS表明薄膜致密度随氢衡释度增加而增加。结合红外谱和SAXS结果讨论不同相结合下硅网络H键合状态。认为在非晶硅膜H以SiH键为主,在微晶硅膜H以SiH2为主且主要存在于晶粒界面。

  • 标签: 微晶硅薄膜 小角X射线散射 半导体 红叶光谱 结构
  • 简介:本文通过比较两个不同晶体生长历史温梯法Al2O3晶体,通过同步辐射衍射形貌相研究晶体内部完整性,在正常晶体生长条件下Al2O3晶体FWHM仅为10弧秒,而在正常晶体生长受到间停电破坏时,Al2O3晶体内易出现亚晶粒等缺陷。其内在原因温梯法晶体生长工艺有关系。

  • 标签: 亚晶粒结构 同步辐射 Al2O3晶体 FWHM 衍射形貌相 X射线衍射
  • 简介:在Al2O3(0001)衬底上用MOCDVD方法进行了GaN外延生长,通过X射线衍射(同步辐射源)研究GaN和Al2O3(0001)匹配关系。结果表明,经充分氮化衬底上,GaN以单一匹配方式沿[0001]方向生长:在Al2O3(0001)衬底未经氮化或氮化不充分时,不同程度地出现其它三种绕<11-20>晶带轴倾斜一定角度匹配位向。指出了GaN/Al2O3(0001)几种匹配方式晶体学规律。GaN绕<11-20>晶带轴倾斜匹配方式是其外延生长过程降低和Al2O3(0001)晶格失配、释放界面应变重要机制之一。

  • 标签: 匹配机制 氮化 GAN MOCVD 晶格匹配 氧化铝衬底
  • 简介:采用溶胶-凝胶方法在碱性条件下制备SiO2和ZrO2溶胶,应用同步辐射小角X射线散射(SAXS)法研究溶胶结构,结果表明,溶胶粒子是多分散,其生长、聚集受RLCA和Eden模型共同控制,是一种非线性动力学过程,所形成聚集体呈随机、分岔、稠密不同结构,具有质量分形特征。同时还发现所研究溶胶散射曲线均不遵守Porod定理,形成负偏离或正偏离。这说明在溶胶粒子分散介质间有过渡相存在。对上述偏离进行了定性和定量分析,提出了正偏离时定量解析方法,从而得到了胶体系统中有关过渡层(界面层)结构重要信息。

  • 标签: 小角X射线散射 溶胶 结构 二氧化硅 二氧化锆
  • 简介:本文利用X射线小角衍射和漫散射技术研究两组具有不同GMRNiFe/Cu多层膜样品界面结构。利用在CuK吸收边附近能量扫描得出了关于NiFe和Cu层结晶性情况。结果表明两组样品在界面结构和结构性上有明显区别。另外,我们还发现NiFe和Cu层原子密度差别比块材料差别大27%。

  • 标签: X射线导常散射 NiFe/Cu多层膜 结构
  • 简介:将四新戊氧基酞菁锌甲苯溶液旋涂成膜,经光学显微镜观察,薄膜表面光滑连续,小角度X射线衍射谱图中有规律Keissig干涉峰说明膜厚均匀,红外反向光谱显示,未加热薄膜分子排列无序,150℃退火后,分子发生了共面聚集以接近垂直角度直立在基片表面上,X射线衍射实验进一步证实薄膜结构有序性,并测定出了1.74A晶面间距。

  • 标签: 四新戊氧基酞菁锌 旋涂膜 结构 分子取向 红外反向光谱
  • 简介:本文采用溶胶-凝胶法,获得了铁掺杂纳米TiO2样品,XRD和透射电镜测量表明在600℃以下焙烧时为锐钛矿,颗粒度在10nm以下,样品在1000℃下焙烧时,转变为金红石相,颖粒度增大。EXAPS和穆谱表明,铁的确掺杂到TiO2晶格内,表现为3价。铁掺杂改变了纯TiO2性质,对于锐铁矿相掺铁纳米TiO2,其紫外-可见反射光谱给出在481nm处出观吸收峰,;对于以金红石相为主掺铁纳米TiO2,其紫外-可见反射光谱在512nm处出现吸收峰。

  • 标签: FE 纳米Ti02 结构 二氧化钛 掺杂
  • 简介:密集散射体体系小角散射往往存在干涉效应影响[1]。所谓密集体系并不一定意味着有相当大样品浓度,往往散射体实在体积样品体积比值大于5%散射曲线就有较大影响。密集散射体之间相互干涉效应理论上较难分析,因为这时散射强度不仅取决散射体按大小分布,而且还取决它们在空间位置分布。在较大角域大散射体散射强度接近于零,实质上不参与干涉:在很小角域各种散射体散射强度均比较高而相互干涉。这时由实验曲线计算出散射体几何尺寸值将小于真实值。

  • 标签: 小角X射线散射 干涉效应 密集体系 散射强度 散射体
  • 简介:本文首次报道ZnO薄膜发光激发谱,此薄膜发射谱主要有绿带和紫外带,峰值波长分别为520和390nm,通过改变生长条件可以获得单一紫外发射带或绿带。其征激发带出乎常规处于真空紫外区,而不在能隙附近近紫外区,其峰值为197nm左右。作者对此特殊现象进行了初步分析讨论。

  • 标签: 真空紫外激发谱 氧化锌 发光 薄膜