简介:薄膜物理与制备技术研究对于惯性约束聚变(ICF)实验具有重要意义,2003年开展的研究工作主要包括几个方面的内容:低压等离子体化学气相沉积(LPPCVD)法微球CH涂层及掺杂(溴等)技术研究;脉冲激光沉积(PLD)法Fe/Al合金薄膜研制;磁控溅射法Au/Gd,Ti/A1,Ti/Cr支撑薄膜研制;碳氢氮(CxNyH1-x-y)薄膜制备技术研究。相应主要结果如下:(1)利用低压等离子体化学气相沉积(LPPCVD)装置深入考察了以反式-2-丁烯如下:
简介:O484.599042623用喇曼散射光谱估算纳米Ge晶粒平均尺寸=Estimationofcrystal—sizeofnano—GebyRamanscatteringspectra[刊,中]/王印月,郑树凯,杨映虎,郭永平(兰州大学物理系.甘肃,兰州(730000)),奇莉,甘润今(北京机械工业学院基础部.北京(100085))//光学学报.—1998,18(9).—1265—1268用射频共溅射技术和真空退火方法制备了埋入SiO2基底中的纳米Ge复合膜(nc—Ge/SiO2。测量了不同温度退火后该复合膜的喇曼散射光谱,其结果与晶体Ge的喇曼谱相比,纳米Ge的喇曼峰位红移峰形变宽;用喇曼谱的参数计算了纳米Ge晶粒的平均尺寸。所得
简介:O484.52003053772厚度具有线性变化的吸收平板或膜层的非相干透射率和反射率=Incoherenttransmissivityandreflectivityofanabsorbingplaneplateorlayerwithlinearvariationsinthickness[刊,中]/钟迪生(辽宁大学物理系.辽宁,沈阳(110036))//应用光学.-2002,23(1).-40-43计算了垂直入射下厚度具有线性变化的吸收平板样品的非相干透射率和反射率(正面和反面),给出了直接确定无基底样品以及透明基底上薄膜能量(强度)系数的精确表达式。图3参3(郑锦玉)
简介:<正>随着科学技术的发展和进步,常规地图生产工艺正朝着以软代硬、以轻代重、以薄代厚的方向迈进,薄膜在地图生产过程中扮演了软、轻、薄的角色,它还具有透明度高、伸缩性小、便于携带、易于保管等特点,因而在地图生产过程中得到了充分应用。制图作业中,常常由于制作地图的工艺方案不同,制图人员经常会碰到薄膜图的拼贴问题。例如,为了制作1∶50000图幅的地理底图,通常需要将四幅放大编绘好的1∶25000图幅经照相缩小而成为1∶50000薄膜图,拼贴到已展绘好1∶50000数学基础的薄膜上;再如,对具有相同地理要素的系列专题图件,可将编绘并复制好的薄膜地理底图和薄膜专题图件套合起来拼贴制成多种专题图件的综合版,然后进行复制,提交验收及清绘出版原图。薄膜图的拼贴质量直接关系着成图质量,所以确保薄膜图的拼贴质量是制图人员面临的实际问题。下面谈谈我们的做法和体会。