简介：过去多年以来，在减少氟化物的排放方面，半导体业行业一直处于领先地位。在气相沉积反应器清洗上，人们研究了许多替代性的的气体和工艺方法，但是，由于这些原料供应短缺，或者需要用高压钢瓶运输，或者有造成显著的温室效应的可能，所以这些方法都不是很理想。

简介：

简介：含SiO_2的物质在自然界中有非常丰富的贮存量,如石英砂,稻谷壳等,这些天然物质本身没有多大的用途,因此人们一直试图通过分离和化学反应的方法来制备纯SiO_2。到目前为止,用普通分离的方法得到的产品其用途不大,纯度不高,而通过合成的方法却得到了用途广泛的高纯度SiO_2产品。目前在全世界范围内已成功开发了两种合成工艺;化学气相法和化学沉淀法。化学沉淀法,它是用水玻璃(硅酸钠)等为原料,通过加入酸性或碱性物质使SiO_2沉淀出来,用洗涤的方法将纳盐和其他物质去除,再经过干燥、包装后为成品,这就是人们常说的沉淀法白炭黑,国内外的产能超过100万吨/年的水平。我国有的单位还发明了利用稻谷壳为原料生产沉淀法白炭黑的工艺,从原生粒子来看,这类产品只能算作

简介：二甲醚（DME）作为民用清洁燃料和潜在的车用发动机燃料，市场空间巨大，因此倍受国内外关注。二甲醚生产方法分为两类：

简介：根据2004年的有关资料，对我国气相法白炭黑行业的发展概况、市场情况进行了概述，就国内气相法白炭黑工业存在问题进行了分析，提出了相关建议。

简介：分析并得出了氟化氢铵气相法合成的反应机理，由此得到了具体优化的工艺条件。通过实验得到了合格的无水氟化氢铵产品，为进一步工业化奠定了基础。

简介：二十世纪初，橡胶工业的补强填料主要是氧化锌，到二十年代，炭黑的试制成功开创了橡胶补强的新时代。炭黑的使用，使得橡胶的力学性能得到极大的提高，然而其最大的缺点是黑色，不能用于制备浅色或彩色制品。在四十年代，德国Degussa公司成功开发出以四氯化硅在氢氧焰中高温水解制备气相法白炭黑的工艺，气相法白炭黑的出现，赋予了橡胶（尤其是硅橡胶）极好的抗张强度、抗撕裂强度，打破了黑色橡胶一统天下的局面。

简介：以热导池为检测器的气相色谱法分析气体中一氧化碳和二氧化碳时只能检测到较高的含量，对于气体中μg级一氧化碳和二氧化碳的分析受热导池检测器检测限的影响热导池法不能满足分析要求，而一氧化碳和二氧化碳在氢焰检测器上又无响应，因此采用了甲烷转化炉，将一氧化碳和二氧化碳加氢转化成甲烷由氢焰检测器来检测。

简介：纳米二氧化硅是一种多功能的添加剂，广泛应用于硅橡胶、涂料、油墨、医药、造纸、食品、化妆品、化学机械抛光等行业，可起到补强、增稠、触变、消光等作用，它是一种在世界范围内真正工业化的纳米材料。

简介：气相法白炭黑是一种白色无味的超细粉体材料，具有增稠、抗结块、控制体系流变和触变等作用，除传统的应用外，近几年在胶体电池中得到了广泛的应用。胶体电池是在传统的铅酸蓄电池基础上发展起来的一种新型电池，又称“免维护蓄电池”，其核心技术是制胶工艺。

简介：

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简介：l纳米气相二氧化硅概况纳米气相二氧化硅(国内俗称气相法白炭黑,以下简称气相SiO_2)是利用卤硅烷经氢氧焰高温水解制得的一种精细、特殊的无定形二氧化硅产品,该产品的原生粒径在7～40nm之间,比表面积一般在100m~2/g～400m~2/g范围内,产品纯度高,SiO~2含量不小于99.8%,是一种极其重要的无机纳米粉体材料。由于其优越的稳定性、补强性、增稠性和触变性而在橡胶、塑料、电子、涂料、医药、农业和CMP等领域得到广泛的应用。气相SiO~2一般有亲水型和疏水型两种产品,其中疏水型

简介：气相二氧化硅是一种高科技产品，具有独特的性能，至今没有可替代的产品出现，在很长时间内都将是战略性原材料。由于其生产工艺难度较大，产品的价格较高，生产气相白炭黑能获取较大的利润，成为国际大公司竞争的焦点。长期国外公司对其生产技术实行严格的封锁，目的就是想在气相白炭黑这一高科技领域取得垄断地位，限制和阻挠发展中国家气相白碳黑工业的发展，以获取高额利润。

简介：

简介：简述了气相二氧化硅的发展情况和制备方法，介绍了气相二氧化硅的特性、标准及其相关表征方法。

简介：简述了气相二氧化硅表面改性方法及原理，同时介绍了表面改性的气相二氯化硅的表征方法及其应用。

简介：本文研究了采用气相燃烧法合成纳米二氧化硅的技术，得出了反应温度对二氧化硅颗粒形貌及四氯化硅进料量对二氧化硅产品性能的影响规律，研制出了可控的纳米级气相白炭黑。

简介：2014年1月中旬，卡博特公司宣布推出一种针对液体硅橡胶应用的亲水性气相二氧化硅产品，可同时满足高透明度和补强性能方面的严苛要求，从而显著提高硅橡胶的整体性能。该产品的比表面积达400m2／g，作为一种添加剂，可大大提高光的透过率，从而提高了硅橡胶的透明度，并将老化后的黄变最高降低30％。

简介：由广州吉必时科技实业有限公司和中橡集团炭黑工业研究设计院共同组织起草的我国第一个气相二氧化硅标准GB／T20020—2005《气相二氧化硅》，将在今年5月1日正式开始实施。