简介:TN305.72002032298光学邻近校正改善亚微米光刻图形质量=Opticalproximitycorrectionforimprovingpatternqualityinsubmicronphotolithography[刊,中]/石瑞英(四川大学物理系.四川,成都(610064)),郭永康(中科院微电子中心.北京(100010))//半导体技术.-2001,26(3).-20-26论述了近年来光学邻近校正技术的进展,讨论了各种行之有效的改善光刻图形质量的校正方法,并分析了邻近效应校正在未来光刻技术中的地位和作用。图8表1参14(李瑞琴)TN305.72002032299光刻技术在微细加工中的应用=Applicationoflithographytechnologytomicroelectronicmanufacturing[刊,中]/刘建海(上海先进半导体制造有限
简介:TN2132005042956恒定辐照下一维HgCdTe环孔PN结光生载流子浓度的计算=Calculationofphotocarrierconcentrationofa1-DloopholeHgCdTePNjunctionundersteady-stateincidence[刊,中]/王忆锋(昆明物理研究所,云南,昆明(650223)),蔡毅//红外技术,-2004,26(6),-41-44,47通过求解一维HgCdTe环孔PN结连续性方程,得到了恒定辐照下光生载流子浓度的一般表达式,并对结果进行了分析讨论。图1参9(严寒)
简介:TB853.2199042625空间相机光学窗口的热光学评价=Thermal—opticalevaluationtoopticalwindowsofspacecam-era[刊,中]/赵立新(中科院空间科学与应用总体部.北京(100080))//光学学报.—1998,18(10).—1440—1444结合工程实际,以光学波像差的基本理论为基础对空间相机光学窗口的非轴对称温度场进行了热光学评价,编程计算了空间相机光学窗口在一个轨道周期内各典型位置处的均方根波像差,并把计算结果与美国"天空实验室"光学窗口的相应数据进行比较,以验证热光学分析的合理性、正确性。图2表2参3(严寒)TB87299042626光学相干层析成像技术的应用=Applicationofopticalcoherencetomography[刊,中]/胡晓云,刘琳,陆治国(西北大学物理系.陕西,西安(710069))//激光技术.—1998,22(6).—339—342介绍了光学相干层析成像技术在不同领域的应用,预言了未来的发展趋势。图2参13(赵桂云)TB87999042627时间分辨投影成像术的成像分辩率的理论研究=Imagingresolutionoftimeresolvedtomographyintissues[刊,中]/陈敏,陈建文,徐至展(中科院上海光机所.上海(201800))//光学学报.—1998,18(10).—1390—1394从漫射近似理论出发,详细讨论了漫射投影系统的透射光斑的点扩散函数与时间门的时间分辩率、探测器的有限大小、生物组织的厚度以及积分时间的关系。图5参14(严寒)