简介：摘要：为探究蚀刻液组分、蚀刻时间、蚀刻温度及酸抛光次数四个因素制备防眩玻璃的最优组合，通过在高铝硅玻璃基片上进行正交试验，采用极差分析法以DOI值为目标分析试验结果，得出四个因素的主次顺序及最优组合。结果表明：蚀刻液最佳质量比::::为60:8:8:8:16，蚀刻时间为5秒，蚀刻温度为20℃，酸抛光次数为3次；以正交试验得出的蚀刻工艺数据制备的防眩玻璃在透光率、光泽度、颗粒度等光学性能指标上均优于目前国产防眩玻璃，均符合行业标准，透光率达91.02%，达到了防眩的目的。
基于正交试验的防眩玻璃蚀刻工艺研究
