简介：摘要：本研究旨在改进多晶硅金属杂质的ICP检测方法，以提高检测准确性和效率。通过优化样品预处理步骤和ICP检测条件，改进了传统方法中存在的一些局限性。实验结果表明，新方法在提高金属杂质检测灵敏度的同时，还能有效降低背景干扰，提高检测结果的可靠性。这一改进为多晶硅生产过程中的质量控制提供了可行性，并有望在其他金属杂质ICP检测领域推广应用。
多晶硅金属杂质ICP检测方法改进研究
