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  • 简介:摘要: 本文深入分析了铜材料表面的电镀层常常存在的油污、腐蚀以及孔洞等缺陷,应用了扫描的电镜、金相显微镜来观察缺陷形貌,并且利用能谱分析来对缺陷位置构成来研究。研究显示:电镀层孔洞因为铜材料内存在孔洞而引起的。油污由于基材表面针孔内残留电镀液而引起的。腐蚀是由于电镀工艺不合理而造成的。对不同的缺陷需要针对性的提出解决方法。

  • 标签: 钨铜材料 常见缺陷 解决方法