微电子与微电子机械系统中的现代光学测试技术

微电子与微电子机械系统中的现代光学测试技术

姜恒

池州学院 安徽省池州市 247100

摘要：随着科学技术的不断发展，以及我国经济的发展速度不断上升，推动着各个领域都有了新的变化和发展。随着微电子工业的不断发展，计算机，通讯和工业的快速地发展起来，并且微电子的发展不断加快，形成的产品被应用于我们的日常生活用品中，为了更好地对集成电路进行优化微电子器件，在未来的发展过程中，面临着更多的需求。随着公厕力学的不断发展，对微电子器件的热变形等提供了有效的检测手段，更好地解决了器件存在的问题。下面将针对微电子与微电子机械系统中的现代光学测试技术进行研究和分析，并提出自己的观点，以供相关企业进行参考。

关键词：微电子；机械系统；现代光学测试

引言：随着科研和生产的需求不断增加进行电子器件的有效研究和测量过程十分重要传统的测量方法已经不能够满足当今的发展需求，因此光村力学的出现形成的光学技术可以很好地解决这一问题。传统通过激光进行测量的工作对环境的要求过高，同时功率也较大无法更好地满足工业测量的需求，不能确保测量的安全性而光学力学出现大大的解决了这一问题反而更好地推动相关企业的发展。

一、微电子技术及光学技术

1.1微电子技术

随着集成电路的不断发展，以及超大型规模集成电路的不断发展，推动着微电子技术发展起来，微电子技术实际上包括的技术包括工艺技术自动测试材料，制备等水进行微电子学中各项工艺技术实施的总和，随着微电子和微电子系统的不断优化以及科学技术的不断成熟光学测试技术渐渐发展起来，并被应用于集成线路的制造过程中。

1.2现代光学技术

现在的光学技术实际上就是只利用光学的原理，从而对各种器具和物品进行精密的测量的一种技术，凡是与光学原理进行精密测量的技术，都可被称作光学测试技术光学测试技术，主要应用的方向包括计量测量测试，包括对物理的传递和控制，以及物理量参数获取到除此之外，还包括对产品质量的评估以及方法的确定等。当下我国在发展过程中进行光学测试技术的研究，包括光学成像技术，光感设技术，光谱技术，光电技术，以及其他光物理技术。光学技术特色包括非接触性高，灵敏性，三维性，快速性以及实施行可以更好地展开物体的测量。现代光学技术测试，主要的发展依据是微电子技术和计算机技术的缜密结合。主要的技术支撑，是电子技术，计算机和精密机械之间的相互作用来确保光学检测技术的正常应用。

二、微电子机械系统

通过微电子机械系统的不断加工，平面印刷的加工技术，不断向着动态的结构不断发展，但由于动态结构的丰庄，远远比静态的结构丰庄要复杂许多因此随着微电子机械系统研究的不断深入，在医疗航天领域中的应用也越来越多，但人们并不仅仅只重视结构的稳定性，为了更好地推进为电子机械系统的发展，人们对系统的可靠性进行了一定的优化，并展开了一定的设计问题。为了在日后的生产过程中，可以更好地将赵系统应用到军事空间技术以及人体的器官过程中，对微机械结构的力学特征的要求越来越高。

三、光学测试技术的应用

3.1立体摄像与图像的测量

在进行立体设想和图像的测量过程中，首先需要将相应的芯片进行封装，然后通过注射的方式连接到印刷电路板上，并且在安装的过程中，确保印刷版焊接时，印刷求到顶点尽可能与焊接，保持在同一平面上，并且误差应该小于100微米通过立体摄影系统的摄像，将左右摄影机的图像，以及相关的技术确定左右图像中焊锡球的位置差异，并得到之间的高度差。

3.2数学图像技术在微小式样的力学性能测试

大部分薄膜和陶瓷以及金属丝等制品，是进行微电子系统结构设计的常用材料，但这些材料一般不能直接应用于电子微系统的结构设计中，通常需要对现行的材料进行加工，并对尺寸进行规定找到标准的是要通过加工所涉及的标准是要，然后再进行应用。但是这种技术来进行材料相关数据的测得，并不能直接获得四种材料在微电子结构下的尺寸参考。这是由于在研究的过程中材料的力学性能会随着结构的变化而变化结构尺寸变化材料的面积也会发生变化，因此为了更好地解决这一问题利用全新的测试方法来检测力学性能必不可少，由于光学测量具有非接触和全厂性的特点，因此可以更好地针对材料性能随着结构的变化而变化的有效特点，通过数字上班的相关技术来对物体的表面进行分析，对于拉伸试验多项应变是一种较为有效的方法，可以对金属丝薄膜等进行拉压、弯曲式样的检测。

3.3用于微电子系统研究的纳米及三维形貌与变形测量技术

由于微电子结构的几何尺寸，通常比正常的机械少，大概三个数量级，因此能够进行常规的力学性能的测试都不能够用于微电子系统力学性能的测量必须采用显微技术，由于普通的显微镜工作距离太短，不能实现几何尺寸和变化的测量远距离显微镜就可以针对这一问题加以解决，通过远距离显微镜，于是要中间，加上光学元件可以更好地进行表面的形貌和变形等。在这个过程中主要应用的技术包括干涉测量技术和栅线投影技术。干涉测量技术，主要是利用远距离的显微镜一下的干涉条纹典型的检测，根据条纹图样的变化以及测量光路的设置通过计算显微镜的表面变形来，对暂行条文图和电击上通电来观察干涉条纹的变化，从而对振动膜进行定量的计算。栅线投影法和相应技术进行，有效地融合可以更好地对三维形貌进行测量。在该系统的应用下，将微小样品的表面轮廓进行不同状态之下的比较来得到轮廓之差，更好地获得样品的表面变形。

3.4相移云纹干涉技术

这种技术主要用于试件的被测表面通过测量来得到面内位移场。通过所得到的干涉条纹图来代表截面上的为位移纹，通常不同的条纹之间的位移长为415纳米，通过显微镜原纹测量，来得到放大后的图像。从而更好地分析微电子器件的纳米级变形测量。

四、结束语

随着电子信息技术的不断提升微电子工业快速地发展起来，不仅应用在集成电路的过程中还应用于生活过程中，因此这就要求集成电路向着更加微小化的方向发展。这一对微电子器件提出了更高的要求，为了更好地进行微电子器件的提升，展开现代光学测试技术的研究必不可少。通过现代光学测试技术解决传统测试技术存在的问题，更好地推动我国微电子与微电子机械系统的更好发展。

参考文献：

[1]何小元，微电子与微电子机械系统的发展[J]现代科技，2017，58.

[2]冯慧，现代光学测试技术的发展[J]社会科学，2019，12.

作者简介：姜恒（1997-09-02），男，汉族，籍贯：安徽省池州市，当前职务：学生，学历：大学本科，研究方向：微电子科学与工程