(中国有色工业第八冶金建设公司设计施工研究院737100)
摘要:静电感应晶闸管(StaticInductionThyristors)简称SITH,是20世纪70年代出现的一种新型半导体电力器件。静电感应晶闸管(SITH)是一种依靠静电感应机制工作的功率半导体器件,即依靠栅偏压和阳(漏)偏压的静电感应作用控制沟道势垒高度从而实现器件的开通和关断。相对于其它种类的功率半导体器件(如SCR、GTO、IGBT、VDMOS等),SITH最明显的特点是具有明确的阻断态和导通态,具有通态压降低(1.0~3.5V)开关速度快(0.5~1.5MHz)电流密度高(800A/cm2)功率处理能力强(10~15kVA)转换效率高(>90%)等一系列优点,兼顾了速度和功率两方面的要求,更适合于作为大功率开关器件使用。这对传统的电力系统的效能提升、模式改造、以及民用节能具有重要的技术、经济意义。
关键词:SITH;通态特性;电学特性
前言:本文主要研究了静电感应晶闸管(SITH)的器件结构、原理、参数及各种特性,并利用SGFramework和Origin软件重点模拟分析了静电感应晶闸管(SITH)的电学特性以及通态特性,给出模拟结果,并且和理论结果进行比较,阐述其作用机理。针对SITH的导通态,提出并建立了类PIN作用模型,认为导通态的SITH其实质是一个由p+阳极-n-漂移区-n+阴极构成的一个PIN二极管,成功地解释了导通态低压大电流的特征。其次还介绍了半导体器件模拟理论得相关内容。
一静电感应晶闸管(SITH)简介
静电感应晶闸管(StaticInductionThyristor)简称SITH。它属于双极型开关器件,自1972年开始研制并生产,发展至今已初步趋于成熟,有些已经商品化。与GTO相比,SITH有许多优点,比如通态电阻小,通态压降低,开关速度快,损耗小,di/dt及du/dt耐量高等,现有产品容量已达1000A/2500V、2200A/450V、400A/4500V,工作频率可达100kHz以上。它在直流调速系统、高频加热电源和开关电源等领域已发挥着重要作用,但制造工艺复杂、成本高是阻碍其发展的重要因素。
图1.1SITH器件的符号和采用几种标准封装的SITH器件
二静电感应晶闸管器件特性
(1)耐压高
正常工艺生产耐压1200~1800V的管子最为成熟,如果将耐压指标降到600~800V,则器件的导通压降可减小,或者关断延时可减小。而且耐压与温度为正比关系,即耐压随温度增高而增高。这些特点,无疑对应用的可靠性大为有利。SITH器件A-K端的反向电压,可以做到600V左右,这点与可控硅相同。
(2)过流能力强
器件在时间为10ms的正弦半波电流冲击下可承受7~10倍额定值,与普通二极管相同。有的器件在试验中金属引腿被烧断了,而器件还安然无损。这种能力主要来源于它的导通特性是一个二极管特性,虽有一定的起始电压,在小电流时功耗比其它种类器件如VDMOS等要大,但是随着电流的增长,压降近于恒定,功耗成一次方增长,而VDMOS成平方增长。到了大电流,同电压等级,同额定电流器件比较,SITH管耗就会小于VDMOS。另外SITH器件没有二次击穿问题,导通后没有饱和深度问题,性能稳定,抗干扰能力强。而VDMOS、IGBT、三极管等,在导通时,一旦栅极电压或电流有所波动,饱和深度不够,立即引起管耗剧增。
(3)SITH的管耗定义是在保证管壳25℃时所能通过的最大电流
几乎电力电子器件都是这样定义的。在实用中还需要折算散热条件。当然,SITH器件由于有2V以内的导通压降,故适合于200V以上电压适用,低压应用不如VDMOS优越。但是200~400V电压正是工频电网的范围,也是电力电子应用最广的范围。
(4)SITH器件开关速度比VDMOS低,但比可控硅快得多
在0.5μs以内开关,可用于50kHz左右的工作频率。其实,一种电力器件能用到多高频率直接与驱动电路有关,还与工作方式、指标要求等各种因素有关,往往综合性能好的电路设计可以充许器件工作在较高的频率。因此总的驱动功率并不大,这与VDMOS相似,而比三极管驱动功率小得多。同时,也造成了SITH器件可靠性高,特别是抗意外扰动能力强的特点。
三SITH的通态特性分析
3.1SITH正向导通态
SITH在工作时,通过沟道中的势垒高低来控制器件的工作状态,在势垒较高时,器件处于阻断态,在势垒很低时,器件处于通态。势垒从高向低转变,器件将从阻断态转向通态;势垒从低向高转变,器件将从通态转向阻断态。而沟道势垒的高低可以通过两种方法来实现:一是通过改变负的栅偏压;二是通过改变阳极偏压。这两种方法改变沟道势垒的高度的原理是相同的,都是静电感应原理;但是这两种方法是通过不同的方式来实现的,更确切的讲,改变的主要的物理量是有区别的:前者是直接通过改变电势;而后者是改变沟道区内的载流子浓度来实现的。为了理解这个问题,首先要明确在器件工作时,器件沟道区的载流子在不同偏置状态时的分布和运动。空穴从阳极注入后,扩散和漂移至沟道区边界,被电场扫向鞍点,并被从鞍点到阴极被指向鞍点的电场阻拦,同时注入到沟道的电子被指向栅体的电场扫向栅体。电子从阴极区扩散至鞍点,被指向鞍点的电场扫向漂移区,而指向栅体的电场则阻止了电子向栅体运动。
3.2SITH的特性曲线
(a)SITH的I-V特性曲线(b)VDS为6.3V~10V时的I-V特性曲线
图3.1SITH电流-电压关系
图3.1给出了SITH电流-电压特性的模拟结果,从图中可以看出,在阻断态,有很高的阻断态电压,低的电流。在不同的栅压下,阻断电压变化很大,随着VGS的升高,阻断电压升高。在栅压增加相同的量时,增加的阻断电压随着VGS的越大增加越大,这并不是简单的线性关系。在转折点,电流的大小几乎相等,但随着栅压的升高,转折电流略有增大。转折电流的大小反映了阳极注入的空穴的浓度的多少,在较大的栅偏压时,电流略有增加,也就是在大电流时,从阳极注入的空穴数更多,被扫入到沟道区的电子数也更多,栅的空间电荷区的空穴数也提高,栅的偏压更多地降落在空间电荷区,削弱了栅偏压对沟道势垒的影响,一致失去了作用,导致器件向通态转变。在通态,电流随着阳极和阴极的电压的增加很快,几乎陡直上升,而在器件上的压降较小,这是一种比较理想的导通状态。
3.3SITH通态分析
3.3.1通态的电势分布
在器件导通时,漂移区和沟道区存在着严重的电导调制效应。在漂移区,由于载流子的浓度很高,不能承受大的电压。在沟道区,由于发生电导调制,净的空间电荷很低,几乎接近于零,不存在由净电荷建立起的电场,同时,由于发生电导调制效应,载流子的浓度很高,沟道电阻低,在沟道电阻上不可能有较大的压降,故在通态时,从沟道中线来看,器件不能承受较大的电压压降。这就导致,在通态器件不可能承受较高的压降。
从沟道中线来看,沟道区和漂移区都发生了强烈的电导调制,这时相当于两个电阻的串连。在漂移区的电压降为欧姆压降:
沟道区存在大的底空穴,使得栅和沟道间的空间电荷区强烈收缩,以至在沟道区脱离接触,在沟道区形成导电沟道。此时沟道区不能再承受高压,因此,在通态,器件的压降会很小。此时沟道中线相当于漂移区的电阻和沟道区的电阻的串连。这两个电阻决定了器件在通态时的通态压降。
3.3.2阳极注入效率的影响
在上面的分析中,认为阳极注入效率为1。在大注入时,其注入效率小于1,在前面的分析中,给出了在大注入时阳极电流成分分析,对此,做进一步讨论,在大注入时,电子电流和空穴电流的关系为:
从上式可以看出,随着电流的增大,电子电流所占的比率越来越大,这表明从阴极注入的电子数并没有完全被复合掉,有很大的一部分没有被复合掉。对共射极放大倍数来说,它会导致阴极电流上升,使得共射极放大倍数减小。
从另一个角度讲,SITH在通态时,希望功耗越小越好。阴极的电子逃逸意味着被复合的电子数占的比率减小。而电子空穴对的复合会产生复合能,这是器件功耗的一个重要来源。所以在通态时希望逃逸的电子数增加。
3.3.3阴极电流分析及影响
在通态时,由于栅对沟道势垒的影响消失,使得沟道空穴向阴极注入。这导致阴极电流为电子电流和空穴电流。这使得阴极电流进一步增大,造成被栅极收集的空穴减少,这将导致了共射极放大倍数的减小。我们可以由图3.5观察导通态时的空穴的情况。
图3.2Vg为-0.7v,VDS为10V时,p的图形
3.3.5漂移区电场的影响
在通态时,由于在器件内承受高压的沟道势垒不存在,部分高压降落在漂移区,使得电子加速向阳极运动,而空穴加速向栅极和沟道区运动。在漂移区内存在这较大的电压压降,使得漂移区的电场加速了载流子的运动,相当于减小了载流子在漂移区的运动时间,也就导致其复合几率减小,也就是使得复合率减小,相当于增大了载流子的生存时间,导致双极扩散长度增加,这将导致共射极放大倍数增加。从电势分布可以看到,电势在漂移区均匀下降,这表明在漂移区内不存在净电荷。这是在漂移区内发生严重的电导调制所致。
图3.3Vg为-0.5v,VDS为10V时,v的图形,电势在漂移区均匀下降
结术语:
本论文利用数值分析方法,在器件物理的基础上,对SITH的工作机理进行了研究,讨论了器件内的载流子运动和分布以及电势的分布。给出了SITH在导通态的工作模型。SITH通过改变栅偏电压的大小和正负,调节导电沟道中空间电荷区的宽度,从而控制了导电沟道的开通与夹断,实现SITH的开关作用。SITH多为常开型,门偏压为0时,处于开通状态;当给门极加反向偏压时,门极耗尽层展宽,在沟道中形成阻挡载流子的势垒,导电沟道被夹断,SITH处于阻断态;去掉门反偏压,SITH迅速由阻断态转为导通态。由此可见,SITH属场控器件,针对SITH的导通态,认为导通态的SITH其实质是一个由p+阳极-n-漂移区-n+阴极构成的一个PIN二极管,成功地解释了导通态低压大电流的特征。
参考文献:
[1]何野魏同立《半导体器件的计算机模拟方法》科学出版社
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[4]DonaldA.Neamen赵毅强等译《半导体物理与器件》电子工业出版社