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《半导体信息》
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2009年3期
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NEDO开发世界顶级Low-K绝缘膜材料
NEDO开发世界顶级Low-K绝缘膜材料
(整期优先)网络出版时间:2009-03-13
作者:
孙再吉
电子电信
>物理电子学
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来源期刊
半导体信息
2009年3期
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