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5nm工艺下SOC Block数字后端设计的难点与挑战
5nm工艺下SOC Block数字后端设计的难点与挑战
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摘要
摘要:随着半导体技术的不断进步,5纳米(5nm)工艺已经成为当前最先进的制造技术之一。这种工艺的采用使得芯片的性能得到了显著提升,同时功耗也得到了有效控制。然而,5nm工艺的引入也给数字后端设计带来了前所未有的挑战。数字后端设计是指在芯片设计流程中,将前端设计好的逻辑电路转换为物理布局的过程,包括布局规划、时钟树综合、布线、功耗分析和物理验证等步骤。
DOI
0dpoox269j/8594021
作者
何素东
机构地区
上海实真微电子有限公司 200000
出处
《中国科技信息》
2024年9期
关键词
5nm工艺
SOC Block
数字后端设计
难点
挑战
分类
[建筑科学][建筑技术科学]
出版日期
2024年08月24日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
中国科技信息
2024年9期
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