摘要
接触暴露被期望发生在常规平版印刷术，并且能是进程偏差的来源(例如缩小和模板的失真)在反应离子蚀刻并且诱导地联合的血浆蚀刻，，期间，这些偏差被离子轰炸导致。这典型地导致不希望得到的sidewall效果，例如更低的sidewall角度。这里，我们报导能有效地在平版印刷术应用最小化sidewall效果的一个新奇的挂bowlshaped平版印刷术面具。作为一个测试用例，有垂直sidewalls的标准硅碳化物支柱用这个面具被制作。面具能与紫外线平版印刷术被用于high-aspect-ratio结构的制造。
出版日期
2016年01月11日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
