简介:<正>举办地点:中国·成都国际会议展览中心举办时间:2005-06-03主办单位:四川省金属学会重庆市机械工程学会汇联(国际)展览机构联系电话:(028)8770129087701293传真:(028)87701293通讯地址:成都市沙湾路49号金牛物资大厦六层602室电子邮件:AsiaExpo@126.com网址:http://www.hlchina.com.cn内容简介:产品表面处理和精饰技术、原材料和设备:清洗、研磨、去毛刺、磨光和抛光、转化膜、电镀、预处理、电泳涂装、阳极氧化、塑料电镀、真空电镀、脱漆脱脂设备和原材料。2涂装设备和辅助产品:油
简介:1超高纯水溶性胶体二氧化硅一半导体生产中,用作化学机械抛光(CMP)的抛光剂日本Fusochemical公司开发成功一种水溶性超高纯胶体二氧化硅.其二氧化硅含量较现有产品高出3倍。到目前为止.水溶性胶体二氧化硅的最高含量12%.该公司通过优化溶胶凝胶合成工艺.使其二氧化硅含量高达40%。该公司合成的超高纯胶体二氧化硅占有世界硅片抛光剂市场份额的80%。