简介：从传统光学冷加工的原理出发，分析了传统接触式加工方法中抛光剂与材料去除深度的理论关系，设计了微晶玻璃超光滑抛光过程中的抛光剂选型试验。通过比较基片的表面质量，摸索出适合微晶玻璃超光滑抛光的最佳抛光剂为金刚石微粉，成功加工出了超光滑微晶光学元件，其表面粗糙度达到0．2nm。
微晶玻璃超光滑抛光过程中抛光剂选型实验研究
