简介:摘 要: 过去的几十年,无机半导体存储、光盘存储、磁盘存储等传统的信息存储器件得到了非常广泛的应用 ,但是随着器件集成度的提高以及存储密度、容量的增加,目前的信息存储材料及技术不能满足需求。在此背景下,具有良好加工性能、机械性能且成本低廉、可多层次存储的聚合物基信息存储材料成为了新一代分子级存储材料的研究对象 [1] 。聚酰亚胺(polyimide/PI)是一种新型的高性能特种工程塑料,其极耐高低温、优良的介电性能、机械强度高、热膨胀系数低、稳定的耐化学药品性等突出优点,使它在众多的聚合物材料中脱颖而出 [2] 。本课题拟用静电纺丝技术制备 MWNTs+TiO 2 /PI 复合纤维,通过炭化处理改变 MWNTs+TiO2 /PI 的表面态,进而研究纺丝炭化对复合薄膜电学性能的影响
简介:摘要:随着我国社会的迅速发展,科学技术也在不断进步,促进了各行业的发展。BOPET聚酯薄膜具有优良的光学性能、良好的力学性能、耐热性能好和绝缘性高等优异的特点,被广泛应用于光电产品领域,例如液晶显示器基膜。为了满足BOPET聚酯薄膜的各种使用功能,BOPET聚酯薄膜需要进行深度加工,由于加工条件和使用条件的多样化,使得低聚物(聚酯薄膜的低分子量的物质)会在聚酯薄膜表面析出、结晶,导致聚酯薄膜表面发白、视认性降低、影响后期加工、污染工序内部件等,最终会使产品的光学性能和应用特性变差。然而,在BOPET聚酯薄膜深度加工过程中多倾向于实施高温或高温高湿处理,从而导致低聚物从聚酯薄膜表面析出越来越严重。随着BOPET聚酯薄膜的广泛应用,特别是用于要求高度透明性的光学领域,低聚物向聚酯薄膜表面析出成为重要的问题。因此,抑制BOPET聚酯薄膜中低聚物的析出,保证聚酯薄膜的高度透明性至关重要。
简介:摘要:本研究深入探讨了液晶模组中光学薄膜材料的分类、特性、制备方法及其应用。研究首先对偏光膜、增亮膜、反射膜及其他功能性光学薄膜如抗反射膜、扩散膜和隔离膜进行了分类和描述,强调了它们在改进液晶显示性能中的关键作用,包括提高透光率、对比度以及显示均匀性等方面。接着,文中详细讨论了光学薄膜的制备技术,如溶液铸造法、挤出法和镀膜技术,以及这些技术如何影响薄膜的光学和物理性能。此外,还探讨了光学薄膜性能的评价标准和测试方法,确保薄膜满足液晶模组的具体应用需求。最后,研究提出了光学薄膜在制备和应用过程中的优化与改进措施,如化学改性、纳米填料增强和表面处理,以改善薄膜的光学和物理性能,从而提升液晶模组的整体性能。