简介:为明确木霉菌素的光稳定性及其主要降解产物,分别采用可见光、紫外光、纳米氧化钛(TiO2)、纳米氧化钛加紫外光(TiO2-UV)催化降解等技术,测试了木霉菌素的光稳定性;并采用高效液相色谱.质谱(HPLC-MS)分析方法,通过与所合成的木霉菌素衍生物进行对照分析,确定了其主要降解产物,同时分析了其降解后活性降低甚至失活的原因。结果表明:可见光、紫外光和纳米TiO2单独作用时对木霉菌素的降解效果均较差,而Ti02-UV的催化降解效果较好;Ti02-UV催化降解24h后的主要降解产物为木霉菌素衍生物木霉菌醇、12,13-二羟基木霉菌素(M-1)、(12-H,13-OH)。木霉菌素(M-2)及(12-H,13-OH).木霉菌醇(M-3)。研究表明,木霉菌素具有很强的光稳定性,而采用Ti02-UV的方式可催化降解木霉菌素,其降解产物活性降低甚至失活可能是由于木霉菌素抑制蛋白质舍成的关键基团被降解破坏所致。
简介:采用最低抑制浓度法(MIC)和菌落直径法,对采自山西晋中、晋南、晋东南和晋北4个地区的188个灰霉病菌株对3种杀菌剂的抗性表现型和稳定性进行了测定,旨在了解灰霉病菌的抗药性状况和预测其抗性发展趋势.结果表明:对多菌灵的抗性表现型可分为敏感(S)、低抗或中抗(RM)和高抗(R),对腐霉利和乙霉威可分为敏感(S)和抗性(R).以对多菌灵、腐霉利和乙霉威的抗性为序,检测出8种不同类型的抗性表现型,即RRR、RRS、RSR、RSS、RMRS、RMSR、RMSS和SSR.各表现型的分布频率随各地区用药历史和水平的不同而变化,并与抗性监测结果相一致.对55个不同抗性表现型的单孢菌株的稳定性测定结果表明:继代无药培养10代后,以RRR和RSS型表现最稳定,而其余类型菌株均不同程度发生了变异,尤其是RMSS和RMRS型菌株100%发生了变异,抗性表现型不稳定的菌株占52.7%.对多菌灵的抗性变化趋势是由敏感向低抗、再向高抗发展;对腐霉利的抗性变化主要是由抗性转变为敏感;而对乙霉威的抗性则相对比较稳定.