简介:通过利用沉积学和地球化学技术对西非刚果盆地下白垩统同期断陷湖相页岩的分析,描述了烃源岩的品质并识别了有机碳最丰富的层段沉积作用引发的原因。该套层序下伏层为活动裂谷沉积剖面,沉积于断层作用和沉降作用活跃期间;上覆层为晚期裂谷沉积剖面,沉积于断层作用和沉降作用减弱期间。整个活动裂谷硅质碎屑页岩沉积剖面的总有机碳(TOG)含量平均为2%-3%(重量百分比)。其中晚期裂谷剖面下部的泥灰岩为6%,上部的三角洲页岩为1%-2%。活动裂谷页岩中的有机质由Ⅰ型和Ⅲ型混合干酪根组成。晚期裂谷泥灰岩中的有机质为纯Ⅰ型干酪根,晚期裂谷三角洲页岩中的有机质为Ⅰ型和Ⅲ型混合干酪根。氧化还原标志物表明,在活动裂谷剖面和晚期裂谷剖面下部的沉积作用期间,深湖为相对还原的环境。因此,还原作用的增强没有促进有机碳最丰富的烃源岩的沉积。晚期裂谷沉积速率降低并不能说明总有机碳含量的全面增加以及有机质类型的变化。丰富的烃源岩与高有机质产率和化学沉积有关,表明溶解的有机质成分,包括有利于藻类生长的营养物流入断陷湖是关键。我们认为与晚期裂谷有关的还原环境,对于植物成因碳向土壤碳酸盐的转化并最终进入断陷湖的有效循环,以及对于加强化学风化作用及营养成分的注入是必不可少的。
简介:产生垢是许多行业都会遇到的一个严重问题,如油气生产、水的储运、发电站等。通常,关于垢的形成研究主要集中在使用大口瓶法了解溶液沉淀过程,并确定沉淀趋势速度和抑制剂效果。最近的一些研究集中于垢在金属表面的沉积。本文综合研究了石灰质垢在溶液和金属表面的形成过程。用三种超饱和成垢液代表油气生产中遇到的典型水样。使用旋转圆盘电极的电化学方法确定金属表面垢量。这一技术考虑旋转圆盘电极表面氧化还原。根据旋转圆盘电极表面氧化还原速率,能够确定垢在该表面覆盖的范围。为了弄清堆积在金属表面的垢的形成和生长,还应用了表面分析法。用扫描电镜(SEM)来分析垢的微观结构。同时,通过垢的溶解,运用感应耦合等离子体(ICP)定量分析溶液中的沉淀量和金属表面的沉积量。本文论证了沉淀和表面沉积与过饱和指数有不同的依赖关系。因此,这两个过程都应加以研究。才能全面了解工业成垢体系。