简介:洪辩作为敦煌张氏归义军首任河西都僧统,参与过张议潮推翻吐蕃的起义,是敦煌名僧,藏经洞保存有他的彩塑写真像,为学界所熟知。洪辩在莫高窟营建方面也是不遗余力的,据敦煌写本记载他在莫高窟建“七佛药师之堂”“法华无垢之塔”,另据研究第16窟也是他的功德窟“吴和尚窟”,因此他在莫高窟应该有相应的供养像,可惜因这些洞窟均经后期重绘,洪辩供养像的信息尚不明确。但经我们考察研究发现,在张议潮的功德窟莫高窟第156窟发现有洪辩的供养像,这与藏经洞洪辩彩塑写真及对应壁画组合有密切关联。更为有趣的是,经仔细梳理第156窟供养像的图像和历史信息,在第156窟洪辩像后跟随着同为敦煌名僧的弟子悟真供养像,他们师徒二人一起出现在节度使张议潮的功德窟中。洪辩和其弟子悟真供养像在第156窟的发现,从供养像的角度,为敦煌佛教及其归义军历史的研究提供新资料。并在此基础上,结合洪辩写真像与供养像的图像组合关系,简单探讨历史时期佛教高僧日常生活中身边的“侍人”“侍者”现象。
简介:花山岩画位于广西壮族自治区宁明县,其保存环境特征是高温潮湿多雨,花山岩画受环境因素作用,岩画颜料及岩石风化明显,风化类型复杂多样,有化学风化、物理风化和生物风化,同时存在、相互影响。它们均与水分有着直接的或间接的关系,因此水的防治是治理岩画风化病害的前提。本工作在水分来源及岩画保存地区地形地貌现场调查的基础上,通过水质分析系统研究了水在岩画风化病害过程中的作用。提出了花山岩画防水治水原则,并结合地质环境和特殊的地形地貌,将整个治水区域划分为山体山顶治水、溶蚀洼地治水、岩画立壁治水三个区域。根据其不同的渗水机制,分别采用盖、堵、排、导相结合的综合防水治水方法。由于岩画病害机理极其复杂,花山岩画防水、治水的难度很大,必须采取区别对待,综合治理的方法。
简介:化学防护和化学加固是目前保护土、石、砖等材质的不可移动文物的常用方法。所用化学材料主要是有机硅等憎水性有机化合物。这些材料能起到一定的防水和加固作用,但也存在不少问题,有的导致了更严重的破坏。其中,憎水性保护层的起壳剥落是最常见的破坏现象,特别当环境干湿循环频繁,文物本体或地下可溶性盐含量较高的情况下,憎水性化学保护层很容易从文物本体上起壳剥落,造成文物的加速腐蚀破坏。为了减小此类破坏的危害程度,本工作探讨了化学保护剂在混合使用和多层配合使用条件下的防护和加固效果。结果发现,以憎水性较弱的化学材料做基底渗透,以憎水性较强的化学材料做表面保护,由此构成的多层保护措施可以降低化学保护层起壳剥落的危害。其主要原因是,多层保护形成的憎水梯度分散了吸湿膨胀形成的界面拉应力,也缓解了盐结晶析出产生的膨胀应力。