简介:摘 要: 随着LED技术的发展,人们逐渐开始追求照明效果和光品质,目前的LED白光还存在着光谱不连续、蓝光危害等问题待解决。现有的一些技术仍具有各自的缺点,本文设计一种可发多波峰的外延多量子阱结构,并研究量子阱对数和位置对芯片发光光谱的影响,获得可调控光谱形状的方法,最终搭配荧光粉而实现低蓝光、光谱连续、高显指的白光。
简介:本文采用多功能四圆X射线衍射仪测绘出立方相GaN/GaAs(001)外延层的极图和倒易空间mapping,研究了六角相GaN和立方相微孪晶的取向、晶粒形状和极性等特征。结果表明外延层中片状六角相与立方相之间的取向关系为:(111)//(0001)、<112>//<1010>。由于(111)Ga面的外延速度远高于{111}N面,导致较多六角相和立方相微孪晶在[110]或[110]方向上的(111)Ga面和(111)Ga面上形成,而在[110]或[110]方向上六角相和立方相微孪晶含量较低。外延层中立方相微孪晶的含量明显低于六角相,表明六角相的形成可以更有效的释放局部应力集中。
简介:SiGe(硅锗合金)BiCMOS工艺集成技术,是在制造电路结构中的双极晶体管时,在硅基区材料中加入一定含量的锗,形成应变硅异质结构晶体管,以改善双极晶体管特性的一种硅基工艺集成技术。对硅锗合金BiCMOS工艺的核心器件——锗硅异质结双极晶体管SiGeHBT的关键工艺模块,包括收集区、基区、发射区和深槽隔离的器件结构与制作工艺进行了研究与探讨。对常用的3种SiGeBiCMOS工艺集成技术BBGate工艺、BAGate工艺和BDGate工艺,进行了工艺集成技术难点与关键工艺方面的研究,并比较了各种工艺流程的优缺点及其适用范围。
简介:TomoreindepthunderstandthedopingeffectsofoxygenonSiGealloys,boththemicro-structureandpropertiesofO-dopedSiGe(including:bulk,(001)surface,and(110)surface)arecalculatedbyDFT+Umethodinthepresentwork.Thecalculatedresultsareasfollows.(i)The(110)surfaceisthemainexposingsurfaceofSiGe,inwhichOimpuritypreferstooccupythesurfacevacancysites.(ii)ForOinterstitialdopingonSiGe(110)surface,theexistencesofenergystatescausedbyOdopinginthebandgapnotonlyenhancetheinfraredlightabsorption,butalsoimprovethebehaviorsofphoto-generatedcarriers.(iii)ThefindingaboutdecreasedsurfaceworkfunctionofO-dopedSiGe(110)surfacecanconfirmpreviousexperimentalobservations.(iv)Inallcases,Odoingmainlyinducestheelectronicstructuresnearthebandgaptovary,butisnotdirectlyinvolvedinthesevariations.Therefore,thesefindingsinthepresentworknotonlycanprovidefurtherexplanationandanalysisforthecorrespondingunderlyingmechanismforsomeoftheexperimentalfindingsreportedintheliterature,butalsoconducetothedevelopmentofμc-SiGe-basedsolarcellsinthefuture.
简介:摘要:近年来,国内外高层建筑发展迅速,现代高层建筑向着体型复杂、功能多样的综合性发展。在同一座建筑中,要求沿房屋高度建筑功能发生显著的变化,上部楼层布置旅馆、住宅,下部楼层用作商场、餐饮和文化娱乐场所,这种不同途径的楼层需要采用不同形式的结构来实现。 关键词:高层建筑;结构转化层;结构