简介：

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简介：探测夸克-胶子等离子体是高能物理研究的最前沿领域之一。本文详细讨论了拧测夸克-胶子等离子体的方法、意义和形成夸克-胶子等离子体的临界物理条件及研究现状和趋势。

简介：通过对学术报告、政府报告和期刊等参考材料的分析,论证了高装填密度发射药的等离子体点火技术是当今电热化学炮技术的研究热点,并简要分析了其所具有的优越性能.

简介：简要介绍了脉冲等离子体推力器（PPT）的基本工作原理;回顾了国内外脉冲等离子推力器的发展历史;阐述了它的优势与面临的挑战;分析了需要研究的关键技术与发展方向.

简介：目的评价低温消融等离子体减小下鼻甲体积的安全性和有效性.方法选择下鼻甲肥大并对药物治疗无效的慢性鼻塞患者38例,应用等离子射频电极在每侧下鼻甲打2～3个孔,于术后3d、2wk、1个月、3个月、6个月和1年分别进行随访.结果手术在10min左右完成,术后无疼痛、结痂或出血等,肥大的下鼻甲不同程度缩小,主观症状得到改善,并在4～6wk显示最佳效果.结论等离子体手术操作简单,有效减小下鼻甲体积,仅对患者引起很小的不适,是一种耳鼻喉科新颖的微创技术,但远期疗效尚需进一步观察.

简介：介绍了朗缪尔探针法测等离子参量实验的基本原理。分别利用两种方法对等离子参量进行测量，对实验数据进行处理、计算，并对结果做了分析、讨论。

简介：等离子体是高温下获得能量电离之后，离解成带正电荷的离子和带负电荷的自由电子，整体的正负离子数目和正负电荷数值仍相等，因此称为等离子体。以下具体论述等离子体加工的方法及实际应用。

简介：本文简要地介绍了等离子体的基本概念和来源,较为详细地描述了几种常见的放电形式并着重讨论了介质阻挡放电,对其微放电的物理机制也作了细致的表述,其中还列出了几个影响微放电的外在因素。文章的最后是对介质阻挡放电的一些实际应用作了较为详细的探讨。

简介：本文综述了激光冲击强化技术的机理和模型,分析了激光冲击强化的技术特点和影响因素,论述了激光冲击强化在生产中的运用,并且探讨激光冲击强化与激光冲击成形、激光喷丸成形之间的区别,展望了激光冲击强化技术的应用前景。

简介：等离子体天线具有隐形性、低噪声、灵活的方向性等显著优点，因此，等离子体天线技术成为各军事大国大力研究的一项技术。本文先介绍了等离子体天线技术的研究背景及意义，列举了等离子体天线的优点，最后重点介绍了目前国内、外等离子体天线技术的研究概况及发展动态。

简介：印制电路板印制插头是PCB中用于电气连接的插脚，起着电气导通的重要作用。由于正常的金表面应当是光亮金黄，但在生产过程中印制插头表面会发生变色，俗称金面氧化，影响电气导通，严重时会导致电子系统工作的失败。然而传统的清洁方法对印制插头表面的作用效果不明显，因此清洁印制插头表面是困扰PCB工艺过程的难题。本文对印制插头表面变色的原因进行分析，提出一种清洁印制插头表面的新型方法，即等离子清洁法，然后采用正交试验法确定清洁的最佳参数范围，并经实践检验取得良好效果。

简介：低温等离子体技术(LowTemperaturePlasmatechnique，LTP)是近年来发展较快的一门材料表面改性技术，本研究采用LTP技术对氟橡胶进行表面改性，考察了改性后的氟橡胶应用于三氨基三硝基苯炸药(TATB)为基的PBX体系中(TATB-PBX)对PBX力学性能的影响，结果表明将LTP技术运用到PBX中，对提高PBX的综合性能是行之有效的。

简介：介绍了使用2.45GHZ微波源激励产生常压等离子体射流（MPJ）的装置，该装置结构简单，使用可靠，实验内容丰富，适合教学要求。

简介：微波等离子体光源是一类重要的有较强激发能力的原子发射光谱光源，主要包括微波感生等离子体光源，电容耦合微波等离子体光源及微波等离子体炬光源。本文是微波等离子体光谱技术发展的第二部分，主要介绍了电容耦合微波等离子体光源及微波等离子体炬光源的结构原理和性能。并对它们的技术特点和进展进行评述。

简介：微波等离子体光源是一类有较强激发能力的原子发射光谱光源，主要包括微波感生等离子体光源（MIP），微波电容耦合等离子体光源及微波等离子体炬光源。文章分两部分，第一部分介绍了微波感生等离子体光源的结构原理和性能，并对它们的技术特点和进展进行评述。低功率微波感生等离子体光源用于直接测定溶液中某些痕量金属元素是比较困难的，如Pb，Hg，Se等元素，但它已成功地与气相色谱联用用于测定C，H，O，N，S等难激发的非金属元素。高功率磁场激发的氮一微波感生等离子体光源（N2-MIP），允许使用通用玻璃同心雾化器产生湿试液气溶胶直接进入等离子体核心，等离子体能稳定运行，其分析性能近似于商用ICP光源，且运行费用低廉，是有发展前景的一种新型原子发射光谱光源。

简介：等离子体电解沉积是一门新兴的材料表面处理技术。详尽介绍了该技术的工艺机理及其影响因素。用该技术可在有色金属及其合金表面制备陶瓷层，对黑色金属及其合金表面进行快速渗碳、渗氮、碳氮共渗等，从而提高材料的耐磨耐腐蚀等性能。从发展的角度分析了该技术在表面处理行业中的应用优势和市场前景。

简介：介绍了等离子体发生器化学气相反应法(CVD)的工作原理和直流电弧主电路,并对此法制备金属纳米和金属纳米氧化物过程中温度、颗粒形态的控制进行了分析。

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