简介：摘要：磁控溅射生成的薄膜厚度的均匀性是成膜性质的一项重要指标。磁场的均匀性和工作气体的均匀性是影响成膜均匀性的主要因素。为了提高调试与生产效率，试验人员试验了炉外外置磁钢法调整炉内磁场强度及均匀性的方法，并通过溅射靶材表面磁场强度的测量，验证了该方法的有效性。

简介：摘要本文基于磁控溅射的磁场分布水平和磁场强度在镀膜性能与质量上影响与价值分析，结合磁控靶材的结构及其磁场的计算方法和步骤的探讨，以及利用ANSYS软件对磁控溅射靶磁场的分布及其相关参数作二维的模拟与分析，对影响磁控溅射磁场分布和磁场强度的主要素和作用机制作详细的分析，以为优化磁控溅射靶的设计，达到正常溅射工作对靶材表面磁场分布及大小的要求提供借鉴与参考。

简介：

简介：　　磁场是物理学中很抽象的一个概念,磁场是一种特殊的物质,即看不见也摸不着,但它是客观存在的,而对磁场强度的认知,新课程标准只能是如图1中所示的通过磁体对曲别针或小铁钉吸附多少来感知,不能上升到量化,学生对磁场强度的认知比较模糊,新课标非常重视学生的认知过程,而初中没有专门测试磁场强弱的仪器,为弥补教学仪器的不足,按新课程标准,结合自己在多年实验教学的经验,改进并研制了实验教具--磁场强度测试仪.……

简介：摘要本文首先介绍了半导体芯片行业用金属溅射靶材的应用、溅射原理以及靶材分类，随后对各种溅射靶材的特性和应用进行了详细描述，然后对国内外主要的7家半导体芯片用溅射靶材生产企业的行业地位、发展现状、优势产品及其市场份额进行了全面分析总结。

简介：在不同的溅射功率和溅射时间下，使用磁控溅射设备制备了系列薄膜Si／Fe（P1W，T1s）和Si/[Fe（P2W，T2s）／NiO（P3w，T3s）]10。利用小角X射线衍射测量了样品的衍射强度分布，并分别计算出了Fe和NiO在不同溅射功率下的沉积速率。实验结果表明，在测量范围内沉积速率与溅射功率之间存在线性关系。

简介：采用宏观腐蚀、X射线衍射分析和扫描电镜观察，研究在不同冷却速度下凝固的Al-1％Si-0．5％Cu（质量分数，下同）合金的宏观和微观组织。实验结果表明，冷却速度对Al—Si—Cu合金的凝固组织有显著影响。随着冷却速度增大，Al-Si—Cu合金凝固组织的晶粒形状和尺寸以及第二相的大小、形貌和分布都发生明显的变化：炉冷试样晶粒为粗大树枝晶状，第二相呈带状富集在晶界处，宽度达15μm：铁模和铜模铸造试样具有典型铸锭组织，大部分第二相呈不到3μm宽的线状富集在晶界处，但铜模铸造试样的柱状晶区较窄，且晶粒较细小；水冷铜模铸造试样几乎完全为细小的等轴晶，晶粒尺寸小而均匀，第二相呈直径约3μm的细小点状弥散分布在α—Al基体中，可得到成分和结构都较均匀的靶材。

简介：用直流磁控溅射技术在室温下制备了厚度为108和215nmAu膜。利用常规CBD扫描模式对Au膜微结构进行分析。XRD分析表明Au膜在平行于基片表面沿〈111〉方向择优生长;薄膜的晶格常数与金粉末的晶格常数（a=4.0862F）一致,晶粒尺寸随膜厚变化不明显。

简介：摘要：通过对 阴极溅射靶、镀膜室以及真空系统分子泵等的设计理念进行概述，并针对某一种多靶磁控溅射镀膜设备进行了分析和研究。 通过对该设备进行镀膜工艺的处理，以此来判定镀膜设备是否符合工艺要求 [1]。

简介：摘要：我们常见的镀膜方法有物理气相沉积镀膜（简称PVD）和化学气相沉积镀膜（简称VCD）。物理气相沉积镀膜主要分为三类：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜。本文介绍的镂空镀膜涉及的镀膜方法是真空溅射镀膜。真空溅射镀膜技术是目前大批量镀膜玻璃生产中最主要的技术之一，它具有膜层厚度均匀、基片温度低、沉积速度快等一系列优点。镂空镀膜与传统追求的膜层均匀完整有所区别，简而言之，镂空镀膜就是采用不同的方法使完整的膜层表现出镂空图案效果。

简介：摘要：开发完成时间：2021年9月7日，首次发表时间：2021年9月13日

简介：介绍了磁控阴极溅射系统的工作原理和故障维修。

简介：

简介：为保证制造精度,对机械加工后的聚氨酯泡沫塑料制件,采取镀前表面封闭处理、刮涂腻子、喷涂底漆和磁控溅射镀不锈钢的工艺路线;井对过程中主要工艺参数控制特别是铰膜的温度控制作了详细的研究。

简介：给出了复杂电磁环境下,提高测量磁场强度信噪比的方法,采用多环线圈提高测量探头的灵敏度,从罗氏线圈测量磁场强度的基本原理出发,推导出了由测量结果还原出待测磁场强度的一般公式,并给出了由待测信号的基本特征确定线圈最佳环数的估算方法。将该测量方法应用于“闪光二号”进行的实验中,测量结果与数值计算结果吻合较好。

简介：

简介：[摘要]全自动磁控溅射的镀膜设备，属于单靶单腔，不但能够将以往传统磁控溅射的镀膜设备所潜在靶间污染相关问题有效处理好，且以高真空的机械手实施传送片作业，工艺腔室当中真空破坏得以减少，可实现高效化地生产作业，工作效率总体提升显著。故本文主要探讨全自动磁控溅射的镀膜设备与其工艺，仅供业内参考。

简介：本文从麦克斯韦方程出发,用矢量场论推导出了静磁场中磁场强度矢量仅与传导电流有关的条件.

简介：摘要采用X射线衍射分析(XRD)测试分析了多晶ZnO薄膜的晶格结构和力学性能。薄膜的制备采用了射频(RF)磁控溅射方法,并分别在不同温度下进行了退火处理。XRD分析显示随着退火温度的上升,薄膜的晶粒尺寸逐步增大,且C轴取向显著增强。测试结果表明适当的退火处理对ZnO薄膜的结晶品质有明显的改善。

简介：摘要采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)对不同衬底温度下制备薄膜的相结构和表面形貌进行分析.结果表明,在衬底温度为500℃时制备的ZnO薄膜表面光滑,晶粒尺寸均匀,结构致密,且沿c轴择优生长。