简介：本文介绍用LabVIEW仿真软件实现李萨如图形。

简介：在大学物理实验教学中,学生在调节示波器频率时,通常会遇到李萨如图形随着频率的调节,出现不稳定现象。在一定的范围内,当频率调节增加时,李萨如迁移演化不稳定程度不同。本文通过实验以及matlab软件模拟李萨如图像形成过程,举例着重讨论分析李萨如图形不稳定原因,并初步定量讨论影响不稳定迁移演化周期因素。

简介：在大学物理教学中分析李萨如图像时,通常使用传统的方法,即切点数反比法、或十字交点数反比法确定李萨如图像水平与竖直方向分振动频率比。但切点数反比法无法确定有端点的李萨如图像的频率比,而十字交点数反比法分析时,学生容易出现较多疑问。而此提出的新的分析方法——单曲线数正比法,其分析过程与分振动物理含义结合紧密,容易理解,应用简单,对封闭以及有端点的李萨如图形分析都适用。

简介：本文分析了用示波器观察利萨如图形的缺陷，给出了用计算机演示利萨如图形的ＢＡＳＩＣ程序，并对决定利萨如图形花样的因素进行了讨论。

简介：TQ171.68497010634超精密光学抛光研究的进展及其发展趋势=Developmentandfeatureofultraprecisionopticalpolishing[刊,中]/滕霖,任敬心(西北工业大学.陕西,西安(710072))∥航空精密制造技术.—1996,32(3).—5—9综述了对精密光学抛光影响精度和质量的因素,对重要因素目前的研究进展进行了分析;介绍了新型

简介：O72395021325磨抛工艺中HgCdTe晶片的表面损伤=SurfacedamageofHgCdTewafersinlappingandpolishing[刊,中]/姚英,蔡毅,欧明娣,梁宏林,朱惜辰(昆明物理所.云南,昆明(650223))//红外技术.—1994,16(5).—15—20用X射线反射形貌术研究了磨抛工艺在用Te溶剂法和布里奇曼法生长的碲镉汞晶片表面引入的

简介：

简介：高功率固体激光装置对KDP晶体光学元件的基本要求是大口径、高精度面形质量、高激光损伤阈值、良好的表面粗糙度。但是KDP晶体本身具有质软、易潮解、脆性高、对温度变化敏感、易开裂等一系列不利于光学加工的特点，传统的研磨抛光法不适于加工高精度的大口径KDP元件。国外加工此类元件已广泛采用先进的单点金刚石车削技术（简称SPDT）。采用SPDT技术加工KDP晶体元件，主要存在3个方面的加工误差，即晶体的面形误差、表面粗糙度（包括表面疵病）以及小尺度波纹等。

简介：本文分析了计算机集成制造系统中生产系统的能力最优配置与管理控制策略之间的关系。针对生产加工系统与加工组装系统的不同特点，本文深入探讨了在Push(推）策略或以Push为主导的推／拉混合控制策略下，生产系统各工作站能力最优配置与能力平衡之间的关系。

简介：TN30597010636大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测-等离子发射光谱法=Insitumonitoringetchprocessandend-pointforLSIbytheplasmaemis-

简介：TN30595021329相移掩模的计算机模拟方法研究[学,中]/沈锋;中科院光电技术研究所.—62页.—1994.6研究了亚微米微细光刻技术的一个热门领域—相移掩模提高分辨率.从Hopkins理论出发,导出了一般情况下的二维物体的部分相干成像的简化强度

简介：针对离轴TMA结构空间相机中使用的两块离轴非球面反射镜的加工过程,提出了一种新型的矩形轴非球面的最接近球面半径的求解及其优化方法,并且开发了基于计算机虚拟加工技术的CC()S工艺参数计算方法。被加工工件分别为165mm义100mm的矩形凸面

简介：本工作主要包括KDP晶体单点金刚石车削加工和是非球面透镜数控抛光技术。

简介：工件如图1所示，材料为1Crl8Ni9Ti，焊接结构件。加工的主要难点是工件内孔深且为盲孔，内孔底部为球面，几何精度要求高，薄壁，刚性差，容易引起变形。

简介：摘要文章探究分析了配扣的基本原理与限制配扣的各种因素，然后借助Excel表格制作配扣运算公式来规划吊装索具。

简介：捷联惯性测量单元较“平台式”惯性测量单元在功能上有新的突破，即前者能实现三维定位，后者只能实现水平二维定位。人们常提及的捷联惯性测量单元是指多陀螺多加速度计的测量单元，即测量过程中用线性加速度计测量运动体的线性加速度，用陀螺仪测量运动体转动角度、角速度或角加速度的测量装置。该类惯性测量单元造价昂贵，针对此，人们在利用多个线性加速度计的适当组合还可以测量运动体的转动角速度甚至转动角加速度等角度信息原理的基础上，提出了无陀螺多加速度计捷联惯性测量单元和单陀螺多加速度计捷联惯性测量单元的实现方案。

简介：论述了离子束曝光技术的原理、特点,分析了其面临的关键技术问题,如掩模技术、离子源技术、图像对准技术等,并介绍了这些年来国外的一些研究机构及公司在离子束曝光技术上的研究进展及

简介：TN305.72002032298光学邻近校正改善亚微米光刻图形质量=Opticalproximitycorrectionforimprovingpatternqualityinsubmicronphotolithography[刊,中]/石瑞英(四川大学物理系.四川,成都(610064)),郭永康(中科院微电子中心.北京(100010))//半导体技术.-2001,26(3).-20-26论述了近年来光学邻近校正技术的进展,讨论了各种行之有效的改善光刻图形质量的校正方法,并分析了邻近效应校正在未来光刻技术中的地位和作用。图8表1参14(李瑞琴)TN305.72002032299光刻技术在微细加工中的应用=Applicationoflithographytechnologytomicroelectronicmanufacturing[刊,中]/刘建海(上海先进半导体制造有限

简介：应用图论将防空系统抽象成二维网络的拓扑结构图，通过指定点对间最小拦截概率的计算，得到防空拓扑图的子同。并应用复杂网络理论，建立了防空节点攻击价值的计算方法．在此基础上设计了防空兵力优化配置算法，给出了能够满足任务要求的兵力配置方案．

简介：财权是企业所有权的核心,如何有效配置财权是企业财务治理的核心问题,直接影响财务契约的运行效率。本文探讨了财权配置的基本逻辑演变,并提出利益相关者共同治理逻辑下财权配置的一般框架和实现机制。一、财权——企业所有权的核心由科斯所开创的企业理论被称为"企业的契约理论",企业的契约性、契约的不完备性以及由此引致的企业所有权的重要性,构成现代企业理论的核心。