简介:光学元件真空状态下的激光负载能力,直接关系到神光Ⅲ的整体技术达标与ICF物理实验的成败,研究光学元件真空激光损伤机理,提高光真空激光负载能力,目前显得尤为迫切与重要。提高光学元器件和材料的真空抗损伤能力,必须深入研究真空环境下激光辐照的损伤机制。
简介:本文将真空物理实验的基本内容应用到霓虹灯技术当中,进一步突出了实验在科学技术方面的实效性和应用性。
简介:本文分析了原真空获得与测量实验装置结构上的不足之处.介绍了对原装置所进行的改进工作──主要用于取代感应圈的专用电源的制作。
简介:在原型装置磨合实验的实际考核过程中,发现终端光学组件内存在严重的油污染,致使化学膜在短时间内严重褪化。油污染的来源包括两个方面,一是终端光学组件内机械件表面及亚表面残留可挥发有机物,另一个来源是真空靶球表面及亚表面残留可挥发性有机物,这些有机物在常温常压下表现出较好的稳定性,但在高温或高真空下则挥发速度大大加快。
简介:神光Ⅲ原型装置运行过程中空间滤波器和终端光学组件保持在10^-3Pa的真空条件下,其中使用的各种润滑脂和密封圈中的有机物饱和蒸气压浓度和自由程增大,造成膜层污染。光学元件表面膜层在污染后性能退化,对装置激光通量、能量效率、运行稳定性和可靠性均会产生严重影响。
简介:本文介绍了一种测量范围为1mmHg—20mmHg,测量精度为0.1mmHg的低真空测量装置及其使用条件和方法。有效地代替了以水银为媒质的旋转式麦氏真空计。
简介:文章介绍了激光干涉测温原理.测试装置及测试结果与普通方法的比较.从而说明此法的优点。
真空激光损伤测量及其平台建设
真空实验在霓虹领域的应用
真空获得与测量实验装置的改进
原型装置终端光学组件真空隔离结构设计
原型装置真空系统光学元件的污染过程及控制
测量低真空系统压强的U型管油压强计
真空镀膜基板温度的测试新法──激光干涉测定基板温度