简介：ZrC涂层被低压力在石墨底层上扔有Br的化学蒸汽免职(LPCVD)2-Zr-C3H6-H2-Ar系统。微观结构和ZrC涂层的生长行为上的免职时间的效果被调查。ZrC涂层在一个岛层模式成长了。涂层的形成被ZrC的成核统治在起始20分钟，和快速的成核产生了ZrC的有细密纹理的结构涂层。免职时间什么时候在30min上，涂层的生长被统治由晶体，给安排列的结构。精力散X光检查光谱学证明到锆的碳的臼齿的比率在在ZrC涂层，和X光检查的1:1附近显示出的光电子光谱学ZrC是在涂层的主要阶段，由大约2.5mol%伴随了ZrO2次要的阶段。
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