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8英
寸
直拉单晶硅微缺陷的研究
作者:
李亚哲
学科:
电气工程
>
电力系统及自动化
创建时间:2017-12-22
出处:
《电力设备》
2017年第24期
机构:(环鑫科技发展有限公司天津市300384)
简介:
摘要在单晶硅的生长过程中,通过调整单晶生长的V/G比值,控制单晶微缺陷的分布。
标签:
单晶硅
微缺陷
缺陷控制
铜坠饰
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直拉单晶硅微缺陷的研究
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