简介:等离子技术在印制电路领域已经广泛应用。主要应用于清洁、除胶、活化和凹蚀,其中除胶应用最广泛。文章首先在理解等离子蚀刻机理的基础上,对等离子蚀刻均匀性进行了研究,研究结果显示:影响等离子蚀刻均匀性的主要因素有边际效应、流量效应和周边气体效应,三者使等离子蚀刻呈“W型分布”。文章对“W型分布”机理进行了理论解释,并利用“W型分布”理论对等离子设备腔体的挡板及装板方式进行了优化。改善后等离子蚀刻均匀性由62.7%提升到了89.7%。文章还对等离子去钻污参数进行了研究。通过优化去钻污参数,等离子层间分离报废由23.9m^2/月降至0.49m^2/月,改善效果明显。
简介:探讨了粒子群优化(PSO)算法在二级偏振模色散补偿器中的应用,分析了用PSO算法动态控制可变时延线的二级偏振模色散补偿器的搜索与跟踪能力.实验表明PSO算法在搜索过程中能够快速发现全局最佳值,而不陷入局部最佳值,同时有着良好的抗噪声性能;并且能够成功地跟踪PMD随时间的变化.