简介:等离子技术在印制电路领域已经广泛应用。主要应用于清洁、除胶、活化和凹蚀,其中除胶应用最广泛。文章首先在理解等离子蚀刻机理的基础上,对等离子蚀刻均匀性进行了研究,研究结果显示:影响等离子蚀刻均匀性的主要因素有边际效应、流量效应和周边气体效应,三者使等离子蚀刻呈“W型分布”。文章对“W型分布”机理进行了理论解释,并利用“W型分布”理论对等离子设备腔体的挡板及装板方式进行了优化。改善后等离子蚀刻均匀性由62.7%提升到了89.7%。文章还对等离子去钻污参数进行了研究。通过优化去钻污参数,等离子层间分离报废由23.9m^2/月降至0.49m^2/月,改善效果明显。
简介:在穿墙雷达建筑物布局成像中,针对现有成像算法因没有充分利用墙体本身的物理特性而出现墙体轮廓模糊、边缘不连贯以及成像过程耗时的问题,提出一种基于优化最小化框架的墙体成像算法。该算法首先利用像素块来表征墙体连续块状的物理特性,并将其引入信号模型,然后以LASSO(LeastAbsoluteShrinkageandSelectionOperator)模型为基础,在优化最小化框架下构造稳健的优化目标函数,最后利用墙体回波信号的时移特性并结合卷积得到迭代过程的快速实现。实验结果表明,该算法对墙体成像特征明显,不仅保证了墙体轮廓特性,而且杂波少、分辨率高,并较大幅度减小了成像算法处理时间。