简介:一、未来的设备,系统组装现在,电子技术正渗透剑各个领域,为包括电子设备在内的各种装备的性能提高和多功能化发挥着作用。作为达成这些装置新变化的手段之一,对组装也提出了多种要求,主要如表1所示。
简介:1.概述集成电路等元器件集成度的大幅度提高,带来了元器件的I/O(输入/输出)数不断地增加。再加上高频信号和高速数字化信号的传输速度加快,要求迅速发展更高密度的电路的组装技术(如CSP、3D等组装),促进了高密度、高精度的组装技术的飞速进步(见表1)。高密度组装技术的发展对常规的印制电路板工业提出更高的技术要求,应迅速研发与解决如何优化布线、布局,制造出更微小的孔、更精细的导线和间距的PCB,
简介:BGA(ballgridarray)球栅阵列封装技术是20世纪90年代以后发展起来的一种先进的高性能封装技术,是一种用于多引脚器件与电路的封装技术。BGA最大的特点就是采用焊球作为引脚,这不仅提高了封装密度,也提高了封装性能。而植球工艺作为BGA封装中的关键工艺将会直接影响器件与电路的性能及可靠性。影响BGA植球工艺的主要因素有:植球材料、植球工艺及回流焊工艺。文章通过对BGA植球的基板、焊膏/助焊剂、焊球等材料的详细介绍,详实阐述了植球工艺过程,并对BGA后处理的回流焊工艺进行了详细描述,提供了BGA植球工艺的检测方法,对植球工艺的可靠性进行了探讨。
简介:本文介绍了应用于金属互联工艺的ARC(抗反射层或防反射层)技术.通过对抗反射层基本原理的说明,结合工艺实验,深刻地理解ARC技术.最后给出了可以用于0.5μm工艺生产的ARC结构及用于衡量ARC性能的参数.
简介:介绍全压接结构器件采用负斜角造型的方法,并对使用葫芦串方法腐蚀台面、进口双组份硅橡胶浇注保护台面等关键技术进行分析和讨论。
简介:RFMEMS开关是用MEMS技术形成的新型电路元件,与传统的半导体开关器件相比具有插入损耗低、隔离度大等优点,将对现有雷达和通信中RF结构产生重大影响。文章介绍了RFMEMS开关的基本工艺流程设计,工艺制作技术的研究。实验解决了种子层技术、聚酰亚胺牺牲层技术、微电镀技术的工艺难题,制作出了RFMEMS开关样品,基本掌握了RFMEMS器件的制作工艺技术。RFMEMS开关样品测试的技术指标为:膜桥高度2um~3um、驱动电压〈30V、频率范围0~40GHz、插入损耗≤1dB、隔离度≥20dB,样品参数性能达到了设计要求。
简介:文章从一个全面的角度阐述了刚挠结合板的制作流程,分析并解决了软硬结合板制作中的技术难点,可以有效的指导该类型产品批量生产,具有较强的市场推广性。
简介:摘要我国现代化的汽车制造业随着科学技术的发展与进步,汽车在设计方面不仅对汽车的安全性与舒适性有着较高的要求,而且随着环保意识不断的增强,汽车的设计也向着低碳环保的方向不断地发展。因此,为了设计出符合现代化要求的汽车,汽车在设计时通过对车身进行设计、减轻车身的重量等创新的设计工艺与制造工艺技术不断的相继涌现出来,为汽车制造业的快速、蓬勃发展增添了支持与动力。本文针对当前汽车行业在对汽车的车身设计与制造工艺技术展开研究与探讨,以此希望能为我国的汽车行业提供参考与借鉴。
简介:摘要:新时期,自动化机械的模具生产与制造做工在各领域及行业中的作用十分重要。严格化的加工明显提升了生产质量及效率,同时,对于产品的精度要求也日益提升,由此,能符合各种人工无法达到的生产标准。机械模具设计工艺技术较多,且具有一定的特殊性,得以在制造业中广泛的普及和应用。对此,文章重点阐述机械模具设计工艺技术,概括和机械模具设计、制造严谨性相关的内容。同时,也能为类似模具设计工艺技术方面的研究提供参考依据。
简介:作为一种传统焊接技术,目前波峰焊依然在电子制造领域发挥着积极作用。本文介绍了波峰焊接技术的原理,以及一种新型波峰焊接技术的特点,与传统波峰焊情况不同,它可以保护表面贴装元件来实现对通孔元件焊接。最后本文分别从焊接前的质量控制、生产工艺材料及工艺参数这三个方面探讨了提高波峰焊质量的有效方法。
简介:本文针对聚四氟乙烯射频介质基板材料,制造通讯用射频多层印制电路板的粘结方式进行了详细介绍,此外对粘结片材料的选择、以及本体粘结实现技术进行了研究。
简介: 1前言 所谓0.4~0.5μm时代,就DRAM而言,恰处于从64M到256M的过渡阶段.长期以来,DRAM被誉为半导体技术的"技术驱动器". ……
简介:由于电子技术的飞速发展,促使了印制电路技术的不断发展。PCB板经由单面-双面—多层发展,并且多层板的比重在逐年增加。多层板表现在向高*精*密*细*大和小二个极端发展。而多层板制造的一个重要工序就是层压,层压品质的控制在多层板制造中显得愈来愈重要。因此要保证多层板层压品质,需要对多层板层压工艺有一个比较好的了解.为此本人就多年的层压实践,对如何提高多层板层压品质在工艺技术上作如下总结:
简介:
简介:本文对印制板干膜图形转移制作进行了简单介绍,对该制程的工艺过程和品质控制进行了较为详细的论述。
简介:1范围。1.1主题内容。本标准规定了印制电路板(以下简称印制板)孔金属化的控制方法、技术要求及试验方法。
简介:摘要:石油与天然气是十分重要的自然资源,随着经济的不断发展,国家对于油气的需求量也在逐渐上升,我国油气行业起步较晚但发展较为快速,如今我国正处于改革的新阶段也是经济结构转型的关键时期,需要石油与天然气作为能源保障。本文主要针对油气田地面建设储运工艺技术进行研究分析,整理所存在的问题并制定出具有创新性的解决方案,最终目标是扩大油气田的建设规模、提高油气开发以及运输效率,为国家的工业化建设奠定基础。
简介:中芯国际集成电路制造(SMIC)将从2009年1月正式启动32nm工艺技术的开发。开发得以启动的原因是美国政府批准向SMIC提供32nm工艺技术。在得到美国政府许可后,SMIC将在该公司拥有尖端技术的全部工厂启动32nm逻辑工艺的开发。并且,该公司还有可能从2009年1月开始,利用SMIC在武汉的300mm晶圆生产线,启动32nm工艺闪存的研究开发。SMIC在此前已经与美国Spansion就探讨制造32nm工艺的闪存达成了协议。
简介:介绍了一种任意层HDI板的制作工艺,针对该类板的制作难点进行分析并提出解决方法。以一种十层任意层HDI板的制作为范例,重点对该制作工艺的激光、线路和电镀等重要制程的控制参数、难点及注意事项进行了讲解,为同行各企业提高生产生产任意层HDI板的技术水平起到抛砖引玉的作用。
SMT工艺技术要点
激光直接图像工艺技术
BGA植球工艺技术
ARC工艺技术研究
全压接器件台面工艺技术
RF MEMS开关工艺技术研究
PCB刚挠结合板加工工艺技术
汽车车身设计与制造工艺技术
探究机械模具设计工艺技术
波峰焊接工艺技术及质量提升
射频多层电路板工艺技术研究
0.4~0.25μm时代的半导体工艺技术
提高多层板层压品质工艺技术总结
NEC研发成功55nm CMOS工艺技术
中芯国际开发出0.11微米CIS工艺技术
印制板图形转移工艺技术及品质控制
印制电路板孔金属化工艺技术要求
油气田地面建设储运工艺技术发展探讨
中芯国际启动32nm工艺技术开发已获批准
一种任意层HDI板制作工艺技术的研究