简介:IntroductionIn2O3·Snfilmshavehightransparency(>95%)withinthevisiblespectralregion,lowresistivity(10-2—10-4ohm·cm)atroomtemperatureandsuperiorthermalstability.Thesefilmshavebeenappliedtosolarcells,electronicsandphotoelectronicsfields.Inrecentyears,organometallic-CVDmethodhasemergedasasuccessfulalternatetothephysicalmethodsandgeneralCVDforthegrowthofthesefilms.TheMO-CVDtech-
简介:Wehavesuccessfullydemonstratedthathighqualityandhighdielectricconstantlayerscanbefabricatedbylowtemperaturephoto-inducedor-assistedprocessing.Ta2O5andZrO2havebeendepositedatt<400℃bymeansofaUVphoto-CVDtechniqueandHfO2byphoto-assistedsol-gelprocessingwiththeaidofexcimerlamps.TheUVannealingofas-grownlayerswasfoundtosignificantlyimprovetheirelectricalproperties.Lowleakagecurrentdensitiesontheorderof10-8A/cm2at1MV/cmfordepositedultrathinTa2O5filmsandca.10-6A/cm2forthephoto-CVDZrO2layersandphoto-irradiatedsol-gelHfO2layershavebeenreadilyachieved.TheimprovementintheleakagepropertiesoftheselayersisattributedtotheUV-generatedactiveoxygenspeciesO(1D)whichstronglyoxidizeanysuboxidestoformmorestoichiometricoxidesonremovingcertaindefects,oxygenvacanciesandimpuritiespresentintheas-preparedlayers.Thephoto-CVDTa2O5filmsdepositedacross10.16-cmSiwafersexhibitahighthicknessuniformitywithavariationoflessthan±2.0%beingobtainedforultrathinca.10nmthickfilms.Thelamptechnologycaninprinciplebeextendedtolargerareawafers,providingapromisinglowtemperatureroutetothefabricationofarangeofhighqualitythinfilmsforfutureULSItechnology.
简介:采用密度泛函理论(DFT)对P450酶活性中心铁卟啉CpdI催化二乙基亚硝胺(NDEA)代谢活化的反应机理进行了研究.结果表明,CpdI催化NDEA羟基化的过程包含氢抽提反应和回弹反应2个步骤.其中,氢抽提反应为控速步骤,氢自由基从NDEA转移到铁卟啉的FeO上,是典型的氢原子传递(HAT)过程;紧接着铁卟啉上的羟基经历无能垒的反应过程回弹到NDEA自由基上,形成羟基化代谢产物.NDEA羟基化过程中高自旋态(HS)和低自旋态(LS)均参与反应,整个羟基化过程呈现明显的双态反应性(TSR).研究比较了NDEA分子侧链上C^αH和C^βH羟基化反应的差异,得到C^αH和C^βH羟基化所需跨越的能垒分别为57.7/57.7kJ/mol(LS/HS)和76.4/74.3kJ/mol(LS/HS),表明C^αH比C^βH更易于在P450作用下发生羟基化;此外,C^βH羟基化所需克服的能垒并未过高,使得C^βH羟基化在生理条件下完全也有可能发生.本研究为深入揭示亚硝胺经代谢活化导致癌症的作用机制提供了可靠的理论依据.
简介:采用密度泛函理论,分别在B3LYP/6-311++g(d,p)和B3LYP/aug-cc-PVTZ理论水平下,系统研究了无水和水催化的OH自由基与HBrO反应,即HBrO+OH和HBrO+OH+H_2O2个反应的微观反应机理,给出了所有可能发生的反应路径,并指出能量最低的反应通道.对于没有水参与的反应,由于OH自由基进攻HBrO方式不同,存在顺式方向和反式方向2种进攻方式的反应路径;当有一分子水参与反应时,考虑HBrOH_2O复合物与OH自由基的反应和HBrO与H_2OOH复合物2种反应情况,共发现4条不同的反应路径.这2种反应的所有路径均是在OH自由基提取氢之前以氢键复合物形式存在,反应过程均为无势垒加合过程,总反应为放热反应.水对目标反应起催化作用,有效地降低了反应的势垒,可以加快OH自由基和HBrO的消耗速度.
简介:采用一种新型燃烧剂抗坏血酸,燃烧法快速制备铁酸钴的复合氧化物.经XRD考察硝酸铁和硝酸钴摩尔比对复合氧化物的影响,电镜表征复合氧化物的形貌、BET表征复合氧化物的比表面积以及紫外表征复合氧化物的紫外吸收性能.以甲基橙为目标降解物对铁酸钴的复合氧化物进行光催化研究.考察了溶液酸度、光照时间、催化剂用量和双氧水用量等条件对光催化效果的影响.最佳光催化条件:当Fe(NO3)3,Co(NO3)3和抗坏血酸的物质的量比为1∶2∶1时所制备的铁酸钴复合氧化物,催化剂用量为200mg/L,溶液的酸度为pH=6;脱色的最佳条件为当Fe(NO3)3,Co(NO3)3和抗坏血酸的物质的量比为1∶3∶1时所制备的复合氧化物,催化剂用量为100mg/L时,pH=4;复合氧化物还对六价铬的吸附率为58%,对铅的吸附率为45%.
简介:将热分解法应用于费-托合成模型催化剂的设计合成,并对一系列制备条件进行了系统的研究.结果显示,前驱体与载体物质的量比、搅拌速率和升温速率都对催化剂的分散度和颗粒的均一性有很大的影响.前驱体与载体比过大会导致颗粒致密堆叠,过小会导致颗粒过于分散.搅拌速率过慢会导致部分颗粒不依附载体生长,导致团聚;而转速过快会导致部分小颗粒形成大团簇.另一方面,升温速率会明显影响颗粒在载体上的成核结晶,进而影响颗粒的粒径大小,颗粒粒径会随着升温速率的增加而增加.当前驱体与载体物质的量比为0.024,搅拌速率为1800r/min,升温速率为8℃/min时,催化剂分散良好,粒径为16.9nm,催化剂负载量为11%,将此催化剂进行费-托合成反应性能测试发现催化剂在210℃,1.0MPa时转化率达到28.5%,C5+选择性达到85.5%,反应后催化剂形貌与结构得到了保持.