简介:利用室温光致荧光谱(PL)研究金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法中温度参数对InP衬底上生长In0.53Ga0.47As/InP量子阱材料质量的影响.通过两组实验分别研究并分析了生长温度对In0.53Ga0.47As层和InP层材料质量的影响,得到了In0.53Ga0.47As层和InP层最佳生长温度分别为650℃和600℃.利用优化条件制备In0.53Ga0.47As/InP基PIN型探测器,得到器件的暗电流较优化前小2个数量级.
简介:概作为机械产品设计和制造过程中的一项重要内容,计算机辅助公差设计(CAT)是CAD/CAPP/CAM集成的关键技术,是国内外先进制造技术发展中亟需解决的问题。计算机辅助公差设计覆盖面非常广泛,涵盖公差规范和标准化、设计/制造工艺/产品生命周期管理中的公差设计、检测与测量以及功能公差设计。本文首先简要分析这些热点问题的研究进展情况,其次介绍本专辑收集的第13届国际生产工程科学院计算机辅助公差设计会议中的最新研究成果,分析该领域的最新研究进展,希望能帮助读者了解相关研究工作并促进研究人员开展讨论,进一步实现计算机辅助公差设计中的关键技术的突破,促进CAD/CAPP/CAM的集成。
简介:结合《数字电路》课的计算机辅助教学系统的教学实践,讨论了它的使用阶段和使用方式,并对应用效果进行了分析。