简介：未经过曝光的干膜具有一定的流动性，这种流动主要表现为：板件竖放时干膜向下流动，板件平放时干膜向孔内流动，通常称之为干膜垂流。当干膜垂流超过一定限度时，会增加开路、短路和镀层空洞的风险，文章将对干膜垂流的影响因素及改善进行阐述。
简介：三星电子日前宣布，已经成功实现了20nm工艺试验芯片的流片，这也是迄今为止业内最先进的半导体制造工艺。三星电子此番利用了美国加州电子设计自动化企业CadenceDesignSystems提供的一体化数字流程RTL—to—GDSII。
简介：无锡华大国奇科技有限公司（QualchipTechnologies，Inc．）是中国华大集成电路设计集团公司北京华大九天软件有限公司（华大九天）全额注资，于无锡市滨湖区无锡（国家）工业设计园成立的国资背景的高端集成电路设计生产服务企业。目前除无锡总部外，国奇科技在上海、北京、深圳和香港分别设有SoC研发和营运中心。
简介：无锡华大国奇科技有限公司（国奇科技）是一家高端集成电路设计生产服务企业，自成立以来，一直致力于为客户提供从规格书到芯片（SPEC-to—CHIP）的全流程一站式服务以及分段定制服务，并承担全方位的设计和顾问工作，经受了市场的考验，得到了客户的一致认可。目前除无锡总部外，国奇科技在上海、深圳和香港分别设有SoC研发和营运中心。
论干膜垂流的影响及改善
三星成功流片全球第一颗20nm工艺试验芯片
最优设计，助造最优中国芯——访无锡华大国奇科技有限公司总裁谷建余先生
紧跟技术潮流、与行业同步发展，做高度可依赖的设计服务平台——访无锡华大国奇科技有限公司总裁谷建余先生
