简介:金属化孔质量直接关系到印制电路板的质量及可靠性,而镀层空洞的多少对孔壁质量的影响很大。评价孔壁镀层空洞的方法为测试沉铜层背光。文章以流程分析法,通过试验找到了影响沉铜背光不良的根本原因。并对产生机理进行了理论分析:去钻污后,板件孔壁吸附的中和调整剂经过烘干时其分子结构被破坏,影响沉铜活化钯离子在孔壁的吸附,进而导致背光不良。最终,文章针对失效根因进行了改善。将沉铜背光等级由8.5-9级提升至9.5级以上,改善了沉铜加工品质。
简介:棕化工艺中的铜离子浓度对棕化效果具有显著影响,当铜离子浓度过高时,棕化缸体的底部或缸壁会不断析出黑色结晶;黑色结晶加剧过滤系统的堵塞以及缸体脏污,从而不断降低药水交换速率及药水活性,进而产生棕化不良现象;本文就铜离子在高浓度状态下产生棕化不良的改善方法进行阐述。
简介:是德科技有限公司(KeysightTechnologies,Inc)宣布,自近日起,是德科技将作为安捷伦的全资子公司进入试运营。预计2014年11月初,是德科技将完全独立运营。是德科技计划在纽约证券交易所挂牌上市,股票交易代码为KEYS。
简介:历时两年由AMD公司董事会主导的首席执行官继任计划终于画上了圆满的句号。经过两年的逐步过渡,年仅46岁的原AMD公司总裁兼首席运营官德克梅尔即将接过帅印,出任AMD公司首席执行官一职。而原AMD公司董事长兼首席执行官海克特鲁毅智,将任职AMD公司董事会执行董事长,继续协助公司进行重要客户的管理,并完成职务的顺利交接。
简介:1开发背景近年来,在以面阵列型封装、高密度多层板为代表的高密度安装技术高速发展的潮流中,积层多层板,以及与它有关联的微小孔径的加工技术,在两方面特别引人关注:其一是高密度布线,其二是高品质、低成本。采用激光加工微细通孔已成为这一发展潮流中的主流。这种孔加工方式所对应的基板材料,目前主要是采用
简介:中国玻纤近日公告称,其控股子公司巨石集团有限公司与德国P—D集团公司拟共同投资年产5000万米玻璃纤维电子布项目。该项目投资总额预计为5700万美元,其中注册资本为2600万美元,双方各占50%,项目建设期预计为一年。
简介:虽厚化铜工艺作为成熟工艺被行业推广应用,但此流程需在图形电镀时直接将镀层厚度镀到满足客户要求,特别在面对制作均值≥1.1mil,单点1.0mil的产品时,对均匀性提出了更高的要求。本文通过阐述在厚化铜流程前提下,通过对阳极排布调整、浮架打孔及安装阳极档板等方式,使图电均匀性得到改善并有效改善夹膜问题。
简介:嘉联益在大陆苏州、昆山设有生产基地,台北关以事后稽查方式,认定其2002年部分产品经香港转运大陆厂简单加工再运回台湾的作法,违反台湾地区经济部国贸局输入规定,货价及罚款共1.61亿元。
简介:线路犬齿状在表观上呈现为线边呈锯齿,轻微的犬齿对线宽无影响,突出位置线宽一般均在20%要求以内,但是严重的时候线宽超出20%的要求,导致产品报废;线路犬齿容易在信号传输过程中产生杂音,影响信号的准确性,特别是在高频信号传输方面;文章通过曝光、显影、电镀等因素进行正交试验,分析实际生产过程中遇到的线路犬齿现象的原因,并制定改善线路犬齿的措施。
简介:ARM公司近日正式宣布推出了全新ARMCortex-A7MPCore理器,ARM公司声称该款处理器将会是该公司有史以来推出的最节能的处理器。
简介:1问题提出印制电路板为减少信号强度的损耗,许多产品根据实际需要,客户会选择使用反转铜箔板材,此类产品的生产加工过程中有一些问题也凸显出来,其中残铜问题就是加工反转铜箔板材过程中表现最突出的一个问题。残铜问题是PCB加工过程中比较常见/典型的质量问题,普通基材位置的残铜通过检板人员用刮刀刮掉即可,对客户端的使用并不会造成品质隐患,只有非常少量的残铜因在密集线路区域无法修理或修理不良会导致报废。但对于反转铜箔而言,残铜率是普通板的几倍甚至十几倍,增加了问题板的修理工作,修理不良导致的报废及客户投诉概率也相应提高。
简介:PCB工业正朝着精细线条方向发展,并要求有较高的合格率和生产效率。这就要求制造商具有一定的生产手段,对图形转移工艺进行优化。玻璃—玻璃曝光框架(框架或靠铰链安装的玻璃系统)的出现已有一些历史,它成功地解决了老式聚酯膜—玻璃系统所存在的许多问题,并主宰着当今PCB工业。(表1)
简介:结合产品开发中的实际案例,分析了测试测量电路中的共地干扰的常见现象,产生原因,以及在电路设计和PCB布线中如何避免和解决此类问题的一些思路。为此类问题的研究,尤其是实际的产品开发,提供一些借鉴。
简介:随着电子产品应用技术的不断更新以及功能的完善,板件的散热性能要求越来越高,因此大量的散热密集孔设计应用于印制线路板,由此带来散热密集孔分层的问题。本文通过对密集散热孔裂纹区域的分析、研究,对VIP散热密集孔设计、钻孔参数、烘烤参数进行了试验验证,并提出了散热密集VIP孔爆板分层改善的方向。
简介:本文介绍了PCB表面平整化和阻焊膜(剂)厚度均匀性的生产技术.
简介:随着模块电源的不断开发与发展,厚铜印制板的生产越来越受到业界的关注和重视。由于表铜较厚,在钻孔/层压/蚀刻/阻焊等制程均有区别于普通PCB加工的工艺控制和难点,且随着布线密度的增加,厚铜板采用盲埋孔设计工艺的比例也越来越高,这进一步加大了工艺加工难度。文章就厚铜板盲孔缺胶问题展开了一系列分析和探讨,并通过工艺优化进行了有效改善,大大提高了生产品质及一次良品率。
简介:未经过曝光的干膜具有一定的流动性,这种流动主要表现为:板件竖放时干膜向下流动,板件平放时干膜向孔内流动,通常称之为干膜垂流。当干膜垂流超过一定限度时,会增加开路、短路和镀层空洞的风险,文章将对干膜垂流的影响因素及改善进行阐述。
简介:0前言随着PCB逐步朝小型化、高外观品质要求化发展,纯粹的模冲成型工艺已很难再满足工艺要求,但模冲作为一种高效化、低成本的成型工艺,其实用价值又不可忽视。如何改变这种困势,如何在不摈弃模冲优势的同时解决模冲所带来的外观品质问题,视为模冲未来发展之重点方向之一。从此点出发,介绍一种模冲外观品质改善的案例,以此来探讨模冲工艺的改良方向。
简介:PTH背光亮线是电镀制程中不可忽视的一项功能性缺陷,文章通过试验对亮线形态的产生进行分析,并针对其影响进行了系统的试验设计,层析各因素对PTH背光亮线的形成影响,从流程维护、系统预防等多方面详细阐述了PTH背光“亮线”的解决方案。
简介:通过对夹膜短路的现象进行分析,确定改善对策,并对改善措施进行跟踪评估。评估结果发现干膜的正确选用对改善夹膜短路产生明显效果,而且能降低总生产成本,提升良品率。
水平孔化背光改善研究
铜离子高浓度状态下棕化不良的改善
是德科技正式开始运营
德克梅尔任AMD新CEO
适用于微孔加工的新型玻璃布
中国玻纤:拟投玻纤电子布项目
图形电镀均匀性改善研究
嘉联益本季营运逐步改善
线路犬齿原因分析与改善
ARM效率最高CPU core Cortex-A7发布
反转铜箔板材残铜问题改善
提高生产效率 改善图形对位精度
测量电路中的共地干扰问题
散热密集孔爆板分层改善探讨
改善PCB阻焊膜厚度均匀性
厚铜板盲孔缺胶改善探讨
论干膜垂流的影响及改善
一种改善模冲压伤技术探讨
PTH背光亮线成因与改善的探究
干膜选择对夹膜短路的改善