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Diffusing behavior of MoO3 on Al
2
O3 and SiO
2
thin films
作者：
WeimingXu YongfaZhu 等
学科：
核科学技术
>
核技术及应用
创建时间：2000-01-11
出处：
《同步辐射装置用户科技论文集》
2000年第1期
简介：
标签：
二氧化硅
薄膜
氧化钼
氧化铝
X射线荧光分析
扩散行为
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Diffusing behavior of MoO3 on Al
2
O3 and SiO
2
thin films
Diffusing behavior of MoO3 on Al
2
O3 and SiO
2
thin films
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