简介：1超高纯水溶性胶体二氧化硅一半导体生产中，用作化学机械抛光（CMP）的抛光剂日本Fusochemical公司开发成功一种水溶性超高纯胶体二氧化硅．其二氧化硅含量较现有产品高出3倍。到目前为止．水溶性胶体二氧化硅的最高含量12％．该公司通过优化溶胶凝胶合成工艺．使其二氧化硅含量高达40％。该公司合成的超高纯胶体二氧化硅占有世界硅片抛光剂市场份额的80％。
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