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NEC研发成功55nm CMOS
工艺
技术
作者：
羽冬
学科：
电子电信
>
物理电子学
创建时间：2006-04-14
出处：
《半导体信息》
2006年第4期
简介：
标签：
工艺技术
NEC
阈值电压
PMOS
光刻技术
氧化膜厚度
全文阅读
英特尔65nm处理器采用新型CPB封装
技术
作者：
羽冬
学科：
电子电信
>
物理电子学
创建时间：2006-02-12
出处：
《半导体信息》
2006年第2期
简介：
标签：
CPB
nm
印制线路板
倒装芯片
铜柱
含铅量
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NEC研发成功55nm CMOS
工艺
技术
NEC研发成功55nm CMOS
工艺
技术
英特尔65nm处理器采用新型CPB封装
技术
英特尔65nm处理器采用新型CPB封装
技术
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