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  • 简介:介绍了真空镀膜技术的基本概念、发展现状、真空条件下镀膜所需的真空条件、手印显现原理、适用范围以及与显现非渗透性客体适用性最广的“502”熏显法之间的比较和增强处理。

  • 标签: 真空镀膜 潜在手印 显现 增强处理