简介：摘要：本文对于目前电子束曝光技术、聚焦离子束刻蚀技术、激光直写加工技术、掩模光刻加工技术、纳米压印加工技术、自组装技术、探针扫描光刻技术的应用要点展开分析，并从设备、人员、制度等层面分析目前发展存在问题和发展建议，通过研究整理光学微纳加工技术下阶段的研究方向，其目的在于不断优化芯片制造体系，促进相关行业经济的持续发展。
芯片制造中的光学微纳加工技术前沿与挑战思路总结
