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纳米尺寸同步辐射X射线光刻
技术
研究
作者：
叶甜春;吴沐新;等
学科：
核科学技术
>
核技术及应用
创建时间：1997-01-11
出处：
《北京同步辐射装置年报》
1997年第1期
简介：
本文报道了作者在同步辐射X射线光刻研究中的一些新进展，其中，最细尺寸已达50纳米。
标签：
纳米尺寸
同步辐射
X射线光刻技术
半导体
掩模
纳米光刻
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纳米尺寸同步辐射X射线光刻
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