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2010年3期
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光诱导MOCVD(Photo—MOCVD)技术的发展
光诱导MOCVD(Photo—MOCVD)技术的发展
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摘要
MOCVD是一种生长或外延薄膜的技术。将光引入外延过程,利用光的量子性,使反应的物理和化学过程得到促进,进而发展了一种新的化合物半导体薄膜制备技术,即光诱导MOCVD技术。本文综合分析了该技术的基本原理、实验装置、光源的分类和选择及该技术的实践应用,介绍了反应室结构的开发设计及光源的新进展。
DOI
zdlo8pwqdl/887316
作者
严碧惠
机构地区
不详
出处
《福建广播电视大学学报》
2010年3期
关键词
光诱导
MOCVD
光源
分类
[文化科学][成人教育学]
出版日期
2010年03月13日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
福建广播电视大学学报
2010年3期
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光诱导
MOCVD
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