光诱导MOCVD(Photo—MOCVD)技术的发展

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摘要 MOCVD是一种生长或外延薄膜的技术。将光引入外延过程,利用光的量子性,使反应的物理和化学过程得到促进,进而发展了一种新的化合物半导体薄膜制备技术,即光诱导MOCVD技术。本文综合分析了该技术的基本原理、实验装置、光源的分类和选择及该技术的实践应用,介绍了反应室结构的开发设计及光源的新进展。
机构地区 不详
关键词 光诱导 MOCVD 光源
出版日期 2010年03月13日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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