首页
期刊中心
期刊检索
论文检索
行业资讯
期刊
期刊
论文
首页
>
《科技新时代》
>
2024年10期
>
VDMOS器件导通电阻工艺优化方法总结
VDMOS器件导通电阻工艺优化方法总结
打印
分享
在线阅读
下载PDF
导出详情
摘要
摘要:在功率MOSFET器件中,导通电阻Rdson直接决定器件在导通状态下的正向压降和导通功耗,是器件最关键的参数之一。在器件结构和版图已经确定的情况下,在器件工艺制造环节中,也会有许多工艺影响Rdson参数,本文结合微晶微电子公司近一年在产品开发中的工艺实践,对优化导通电阻的工艺方法做一总结。
DOI
lj1eeg7kgd/8571020
作者
史瑞
王莎莎
吴慧敏
机构地区
西安微晶微电子有限公司工艺整合部,陕西 西安 710000
出处
《科技新时代》
2024年10期
关键词
分类
[建筑科学][建筑技术科学]
出版日期
2024年08月15日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
相关文献
1
江兴.
Vishay Siliconix的双芯片P沟道器件刷新业内最低导通电阻纪录
.物理电子学,2011-02.
2
谢欢, .
浅析电缆组件导通电阻异常问题
.,2023-05.
3
李昊忱,,闫紫凡,,李灿.
接地导通电阻表检定中的不确定度评定
.建筑技术科学,2024-07.
4
吴慧敏1,魏干1,王展杰2.
功率器件VDMOS渐变型IDSS散点失效分析
.建筑技术科学,2021-07.
5
陈川.
接地导通电阻测试仪的测量线(弹簧夹)电阻值的影响和消除
.电力系统及自动化,2018-12.
6
黎丛焕.
接地导通电阻测试仪测量结果不确定度评定分析
.建筑理论,2022-11.
7
吴茜,王莎莎,翁锴强.
高压 VDMOS器件 P区注入对阈值电压的影响
.建筑技术科学,2019-12.
8
吴茜王莎莎翁锴强.
高压VDMOS器件P区注入对阈值电压的影响
.社会学,2019-09.
9
魏干,吴慧敏,罗智化.
VDMOS芯片IGSS失效分析方法
.建筑技术科学,2021-07.
10
代海洋;翟凤潇;蒋逢春.
惠斯通电桥测电阻及电阻温度系数的教学探讨
.物理,2017-02.
来源期刊
科技新时代
2024年10期
相关推荐
VDMOS器件一种区域性 IGSS失效的分析及解决
VDMOS器件一种区域性IGSS失效的分析及解决
惠斯通电桥测电阻实验的讨论
侧向电阻率与普通电阻率测井效果对比
瑞萨推出导通电阻仅为150mΩ的600V耐压超结MOSFET
同分类资源
更多
[建筑技术科学]
工程检验检测中的检测标准与规范制定研究
[建筑技术科学]
电气自动化的机械管理与维护研究
[建筑技术科学]
乡村振兴战略背景下农技推广工作的实践思考
[建筑技术科学]
电力企业人力资源管理开发面临的问题及对策
[建筑技术科学]
微型传感器在医疗领域的应用
相关关键词
返回顶部